Gebraucht NIKON NSR i12D #293609816 zu verkaufen
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NIKON NSR i12D ist ein vielseitiger Wafer-Stepper, der in fortschrittlichen Halbleiterherstellungsprozessen eingesetzt wird. Seine hohe Genauigkeit und Produktivität sind für die Fertigung von Geräten der nächsten Generation geeignet. Das i12D ist mit einer 12 "-Wafergröße und zwei kohärenten Laserstrahlen ausgestattet, die von einer Ultrahochleistungslaserquelle erzeugt werden. Dies bietet eine extrem präzise Ausrichtungsgenauigkeit von bis zu 0,1 µm und eine Auflösung von bis zu 0,08 µm. Es ist in der Lage, mehrere Feldgrößen gleichzeitig zu belichten und schließlich Submikron-Strukturen zu erreichen. Diese Funktion wird verwendet, um die Produktionszeit zu minimieren und den Umfang der Korrektur während Halbleitermusterprozessen zu minimieren. Das i12D verfügt auch über einen abnehmbaren Laserkopf für einfache Wartung sowie automatische Ausrichtungs- und Fokuseinstellfunktionen, die die Effizienz des Bedieners verbessern. Darüber hinaus ermöglicht eine integrierte Lithographie-Software eine effiziente Musterkontrolle und Auswertung der Ergebnisse. Darüber hinaus ist es mit einem schwingungsarmen Rahmen entworfen, um den Platzbedarf zu reduzieren und die Umgebung zu schützen. NSR i12D ist eine flexible Plattform, die sowohl wechselnde Auftragsexpositionen (AO) als auch eigenständige Expositionen bereitstellt und gleichzeitig eine Reihe von Stromquellen unterstützt, einschließlich Standard- und Nicht-Standardobjektiven. Es unterstützt auch Dünnschichtbeschichtung zur Aufnahme von Dünnschichttransistorvorrichtungen. Leistungsmäßig ist das i12D mit einem fortschrittlichen 9-Achsen-Steuerungssystem ausgestattet, das eine mehrachsige Steuerung während des Belichtungsprozesses ermöglicht. Dies fördert eine präzise, wiederholbare Leistung für alle Belichtungsoperationen. Darüber hinaus ermöglicht die eingebettete Musterkorrektursoftware eine verbesserte Auflösung und Größengenauigkeit der Funktionen. Insgesamt ist NIKON NSR i12D ein idealer Wafer-Stepper für fortschrittliche Halbleiterprozesse. Seine Eigenschaften machen es für die nächste Generation der Geräteherstellung gut geeignet, wodurch Hersteller die Produktionszeit reduzieren und die Erträge erhöhen können.
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