Gebraucht NIKON NSR i9 #293586905 zu verkaufen

NIKON NSR i9 ist ein hochmoderner Wafer-Stepper, der die Oberfläche von Halbleitersubstraten mit großem Durchmesser mit minimaler Defektivität präzise und wiederholbar strukturieren kann. Es gleicht den Durchsatz, die Auflösung und die Kosten in einem kompakten, aber hochfähigen Paket aus. NSR i9 verwendet eine 4-Linsen-Projektionsoptik auf ein Laserinterferometer und Navigationsgeräte, die Defekte von bis zu 32 Nanometern auf Substraten mit einem Durchmesser von bis zu acht Zoll ermöglicht. Dies ist eine zweifache Verbesserung gegenüber dem Vorgänger des Systems. Das Interferometer ermöglicht die Genauigkeit des Sub-Nanometer-Niveaus in der Wafer-Positionierung, und die Navigationseinheit ermöglicht Wafer eine Wafer-Ausrichtungsgenauigkeit, die typischerweise solche Operationen begrenzt. NIKON NSR i9 Frameset enthält auch eine Entmagnetisierungslinse, die gleichzeitig die Auflösung des Mikroskops verbessert, und eine Zoomlinse, die die Sichtfelder vergrößert, unter Beibehaltung eines feinen Fokus auf ein sich bewegendes Ziel, unabhängig von der Substratposition. Weitere Merkmale von NSR i9 sind eine verbesserte Lasermaschine, die in der Lage ist, Licht eines vollen Spektrums bei allen Prozesswellenlängen zu emittieren, eine ultra-niedrige, statische und dynamische Abstandslücke von 1,2 um bis 0,1 um, inzwischen Benutzerfreundlichkeit für Prozessänderungen und optimiert für Platten- und Flachsubstrate. NIKON NSR i9 bietet auch modernste Funktionen, wie eine voll integrierte Kammer für Trocken- und Tauchkammerrezepte, integrierte Verkapselung der optischen Komponenten in Leichtbauweise, ein digitales Mikroskop mit einem mehrstufigen Sichtfeld zur Identifizierung potenzieller Fehler, automatisierte Werkzeuge und Einstellungen, um die Bearbeitungszeit des Substrats zu minimieren und die Kartierungsqualität zu verbessern, bei gleichzeitiger Erhaltung der Sicherheit der empfindlichen und wertvollen Substrate, ermöglicht NSR i9, Wafer bis zu 8 Zoll Durchmesser mit Sub-nm Genauigkeit zu mustern.