Gebraucht NIKON NSR S203 #9315286 zu verkaufen

NIKON NSR S203 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper, der für den Einsatz in hochpräzisen Lithographieanwendungen entwickelt wurde. Das Gerät ist mit einer 4-Achsen, 6-Achsen oder 7-Achsen Ausrüstung der Bühnenbewegung ausgestattet, was eine sehr hohe Auflösung von 0,5 nm ermöglicht. Das System ist so ausgelegt, dass es auf unterschiedliche Wafergrößen sowie die unterschiedlichen Abmessungen der Substrate eingestellt werden kann. Die ursprüngliche NSR- S203 ist eine Doppelstrahl-Lithographieeinheit, die eine langlebige Lampe enthält, die eine beugungsbegrenzte Beleuchtung für einen weiten Wellenlängenbereich bereitstellen kann. NIKON NSR S203 verwendet eine Reihe von proprietären Technologien, um hohe Durchsatzscanning und Sub-Mikrometer-Genauigkeit zu erreichen. Dazu gehören die STFI-Maschine (Self-Triggering Frame Inserter), SCAT-Werkzeug (Scan Control AutoTune) und die Steuerung der Luftlagerbewegung. Das STFI-Modell sorgt mit seinem 8-Zoll-Durchmesser-Retikel für höchsten Leistungsdurchsatz und sorgt für hohe Genauigkeit während des gesamten Netzaustauschs. Die SCAT-Ausrüstung gewährleistet eine genaue Abtastung durch die Einstellung der Scanparameter im Flugzeug, während die Luftlagerstufenbewegungssteuerung einen Schritt- und Wiederholungsabtastmodus mit einem Hochgeschwindigkeits-Controller ermöglicht. NSR S203 ist auch mit einem kompletten Satz von Print Alignment und Metrology-Lösungen ausgestattet. Das Gerät ist mit einer Ausrichtungskamera und einer Low-Power Vision Inspection Unit (VIS) integriert, die für eine korrelationsfreie Musterausrichtung sorgen und die Überwachung von Druckmustern unterstützen. Das VIS unterstützt bei der Erkennung von Überlagerungsfehlern, Linienbreite und Formmessung sowie 2D- und 3D-Oberflächenrauhigkeitsmessungen. Eine Vielzahl von Kalibrierungsalgorithmen werden verwendet, um die Prozessgenauigkeit zu verbessern und Überlagerungsfehler zu reduzieren. NIKON NSR S203 verfügt auch über einen fortschrittlichen Lithographie-Optimierungsalgorithmus, der die Gesamtleistung und Genauigkeit des Steppers verbessert. Der Optimierungsalgorithmus verwendet fortschrittliche Software, um automatisch die optimalen Belichtungsparameter für den Prozess zu ermitteln, was zu einer verbesserten Geräteausbeute und Feinstrukturierung führt. Die Maschine bietet auch eine Vielzahl von Musterwerkzeugen und hilft, verschwendete Wafer und Lithographiefehler zu minimieren. Zusammenfassend ist NSR S203 ein Hochleistungs-Wafer-Stepper, der für hochpräzise Lithographieanwendungen entwickelt wurde. Es ist mit einer Vielzahl von proprietären Technologien ausgestattet, um hohe Durchsatzscanning und Sub-Mikrometer-Genauigkeit zu erreichen. Das Gerät ist weiter mit einer Vielzahl von Druckausrichtungs- und Metrologie-Lösungen sowie einem Lithographie-Optimierungsalgorithmus integriert, um die Leistung und Genauigkeit zu maximieren.