Gebraucht NIKON NSR S203B #9357170 zu verkaufen

NIKON NSR S203B ist ein führender Wafer-Stepper für fortschrittliche Lithographie-Prozesse. Es ist ein Immersionswerkzeug, das bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das Gerät verfügt über ein optimiertes optisches System, das eine Auflösung von 0,13 µm, eine Schrittweite von 0,07 µm und eine Fokustiefe von 1,7 µm ermöglicht. Das Gerät ist ein hochintegrierter, fortschrittlicher Maskenausrichter, der eine Submikron-Lithographieauflösung erzeugen kann. Die Maschine ist mit einer Hochgeschwindigkeits- 6kW-Laser-Auto-Fokus-Maschine und Sechs-Achsen-Auto-Nivellierung Steuerung für verbesserte Bilderzeugung Gleichmäßigkeit und Genauigkeit ausgestattet. Dies trägt dazu bei, dass der Wafer genau auf der Belichtungsstufe platziert wird und der optimale Fokus der Belichtung erreicht wird. Es bietet auch ein modernes Kühlwerkzeug mit einem flüssigen Kühlmantel, um zu verhindern, dass sich der Brechungsindex nach der Belichtung ändert. Die Genauigkeit dieser Anlage ist unerlässlich, um die höchste Qualität der Lithographie zu gewährleisten, die möglich ist. NIKON NSR-S203B wurde entwickelt, um den Anwendern ein umfassendes Spektrum an Funktionen zu bieten, darunter einen vollautomatischen Belichtungsvorgang, ein hochpräzises Belichtungsmodell und einen Belichtungsgenauigkeitsgrad von mehr als einem Prozent. Das Belichtungsgerät enthält ein Resistschichtkompensationssystem mit hohem Durchsatz und geringer Belichtungszeit, um die Geschwindigkeit und Genauigkeit der Belichtung zu optimieren. Die Steuereinheit sorgt für eine perfekte Synchronisation zwischen dem Wafer und der Belichtungseinheit und bietet die Möglichkeit, Belichtungsparameter abzustimmen. Die Maschine verfügt auch über eine hocheffiziente temperaturgeregelte Umgebungskammer, um die Komponenten vor thermischen Schwankungen zu schützen. Dies erhöht die thermische Stabilität der Vorrichtung erheblich und reduziert auch mögliche Bildfehler. Darüber hinaus bietet das Tool eine aktive Schwingungskontrolle, die Belichtungszeit reduziert, um die höchste Qualität der Bildgebung zu gewährleisten. NSR S203B liefert auch hervorragende bildgebende Ergebnisse durch den Einsatz von fortschrittlichen Algorithmen, die für kleine Funktionsgrößen, hochauflösende Masken und komplexe Belichtungen entwickelt wurden. Der Belichtungsprozess wird durch die Verwendung einer hochauflösenden Kamera und fortgeschrittener Bildverarbeitungsalgorithmen weiter verbessert. Die Kamera kann jeden Schmutz oder Fehler auf dem Wafer erkennen und automatisch für sie einstellen. Das Modell enthält auch eine ausgeklügelte Benutzeroberfläche für die Programmierung der Geräte, so dass Benutzer die Belichtungsparameter und -parameter schnell einrichten können. Insgesamt bietet NSR-S203B Wafer-Stepper Anwendern eine fortschrittliche Lithographie-Plattform, die hochpräzise, schnelle, hohe Durchsätze und hochgenaue Belichtungsprozesse bereitstellt. Es ist als All-in-One-Lösung für Gerätehersteller konzipiert und bietet erstklassige Bildgebungsleistung und -genauigkeit.