Gebraucht NIKON NSR S204 #9241845 zu verkaufen

NIKON NSR S204
Hersteller
NIKON
Modell
NSR S204
ID: 9241845
Scanner.
NIKON NSR S204 ist ein Waferstepper für die Produktion und Forschung in der Mikroelektronik- und Halbleiterindustrie. Es ist ein spezialisiertes Schritt- und Wiederholwerkzeug, das für die präzise Strukturierung von mikroelektronischen Mikrostrukturen und Leiterplatten optimiert ist. NSR S204 verwendet einen zweidimensionalen Mustergenerator, um das erforderliche Muster auf dem Substrat zu erzeugen. Es verwendet eine Kombination aus Strahloptik, Elektronenstrahllithographie und optischen Abbildungslinsen. Der Elektronenstrahl wird von einer Hochstrompistole erzeugt und mittels einer Reihe von Fokussierelementen zur Zieloberfläche hin geformt und gelenkt. Dadurch entstehen nanoskalige KEs mit Formelementgrößen bis 17 nm. Die erstellten Muster können zur Erstellung von Mikrostrukturen für integrierte Chipkonstruktionen verwendet werden. NIKON NSR S204 hat einen hohen Standard an Wafermustergleichmäßigkeit und Registriergenauigkeit. Es verfügt über ein patentiertes zweispuriges Scan-System, das eine hohe Gleichmäßigkeit über alle Wafergrößen bietet. Es hat auch eine einzigartige zweispurige Scanfeldreihenfolge mit gestufter Ansammlung, um die Genauigkeit im Umgang mit größeren Wafern sicherzustellen. Der Schritt- und Wiederholungsmodus von NSR S204 eine Feinjustierung der Feldgröße ermöglichen, um den Durchsatz innerhalb der Fertigungsprozesse zu maximieren. Dieser Wafer-Stepper hat eine breite Palette von Prozessparametern, einschließlich einer Reihe von Wafergrößen, Belichtungen und Merkmalsgrößen. Es ist auch in der Lage, Hoch- und Tieftemperaturprozesse zu handhaben. Es hat einen Durchsatz von bis zu 3 Wafern/Stunde und eine Genauigkeit von 5-7nm. Es ist von -7 ° C bis + 50 ° C betriebsbereit und hat eine Versorgungsspannung von 110V/20A, 50-60Hz. Das Spiegelsystem ist mit 5-Achsen-Fähigkeit ausgestattet, Vibrationsinterferenzen mit dem Elektronenstrahl zu minimieren. NIKON NSR S204 wird für Wafer-Level-Musterung verwendet, um überlegene Musterqualität und Gleichmäßigkeit zu erreichen. Aufgrund seiner präzisen Strukturierbarkeit ist es ideal für fortschrittliche Lithographie- und optoelektronische Geräteprozesse. Der Wafer-Stepper bietet eine kostengünstige Möglichkeit, Mikrostrukturen mit minimalen Ertragsverlusten präzise herzustellen.
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