Gebraucht NIKON NSR S204B #293595741 zu verkaufen

NIKON NSR S204B ist ein Weltklasse-Wafer Stepper entwickelt, um die Geschwindigkeit und Präzision der Lithographie und Belichtung Operationen zu maximieren. Dieser Stepper kombiniert fortschrittliche Belichtungstechnologie und integrierte Messtechnik, um eine schnelle Photomaskenherstellung mit erhöhter Genauigkeit und minimalem Abfall zu ermöglichen. Dieses Produkt bietet ein zuverlässiges, benutzerfreundliches System zur Herstellung von Halbleiterprodukten. NIKON NSR-S204B Stepper verfügt über ein fortschrittliches dreiachsiges optisches Elementdesign, das eine überlegene Geschwindigkeit und Genauigkeit in der Bildgebung ermöglicht. Der FESEMIS (Fabrication Equipment Subsystem for Equipment Interface Standard) bietet eine flexible Schnittstelle für die Integration mit einer Vielzahl von Geräten, einschließlich Inspektionssystemen und materialbeweglichen Geräten. Die FESEMIS unterstützt eine breite Palette von bildgebenden Formaten und ermöglicht den Schrittbetrieb für Wafer mit 8- und 12-Zoll-Durchmesser. Der Stepper hat vier integrierte optische Hauptelemente: eine Objektivlinse, eine Feldlinse, eine Beleuchtungslinse und eine Sammellinse. Die Objektivlinse deckt eine breite numerische Apertur (N.A.) von 0,35 bis 0,5 ab und weist eine geringe Verzerrung sowie echte Fokusneigungs- und Verschiebungskorrekturen auf. Die Feldlinse bietet ein flaches Feld, während die Beleuchtungs- und Sammellinsen mit fortschrittlicher PDI-Technologie (Point-Diffraction Interferometry) konfiguriert werden. Diese Kombination von Eigenschaften sorgt für hochpräzise Bildgebung mit geringer Verzerrung und geringer Feldkrümmung. Der NSR S 204 B Stepper verfügt zudem über eine umfassende Funktionsreihe, die eine präzise und präzise Steuerung des Maskenprozesses ermöglicht. Dazu gehören hochauflösende Registrierungs- (HRS) und optische Leistungssteuerung (OPC), die die Belichtungsqualität und den Durchsatz optimieren. Die HRS-Funktion ermöglicht eine präzise und genaue Ausrichtung des Gerätefeldes mit dem Layout-Muster, während die OPC-Funktion es ermöglicht, globale und lokale Änderungen am Stepper zu überwachen und zu optimieren. Dies gewährleistet eine präzise Bildgebung für hochauflösende Masken und sorgt für überlegene Genauigkeit für feine Linienauflösungsmasken. Darüber hinaus bietet der Stepper mehrere Funktionen zur Unterstützung bei der Wartung und Betriebskontrolle, einschließlich Reporting, Protokollierung und Workload-Steuerung. Insgesamt ist der NSR-S 204 B Stepper eine fortschrittliche, hochmoderne Wafer-Stepper-Lösung. Dieses Produkt zeigt überlegene Geschwindigkeit, Genauigkeit und Stabilität und ist somit eine ideale Wahl für hochpräzise und hochdurchsatzreiche Photomasken-Herstellungsprozesse. Die Kombination aus integrierter Optik und Messtechnik, kombiniert mit dem umfassenden Leistungsspektrum des Produkts, macht NSR S204B zum idealen Stepper für Halbleiterhersteller.