Gebraucht NIKON NSR S204B #293627299 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR S204B
ID: 293627299
DUV Scanner CYMER ELS 6400 Exposure power: 900 mW/cm² Illumination uniformity: ±2% Wafer flatness: 3.0 µm Recticle accuracy: 0.4 - 0.8 mm Reticle rotation: |x| + 3σ, 0.02 µm Stepping precision: 3σ, 0.025 µm Backlash precision: 3σ, 0.025 µm Distortion: ≤ ±0.025 µm LSA Overlay: 3δ ≤ 0.045 µm FIA Overlay: 3δ ≤ 0.045 µm Inclination: ≤ 0.2 µm Wafer pre-alignment: ≤ 15 µm.
NIKON NSR S204B ist eine leistungsstarke, stufen- und wiederholende Wafer-Schrittausrüstung zur Herstellung von Photomasken, Retikeln, Flachbildschirmen und hochauflösenden Inspektionssubstraten. Es verfügt über eine der präzisesten Auflösung von 0,37 nm mit einer maximalen Mustergröße von 12mm x 12mm. Die Maschine ist in der Lage, mehrere Netzteile gleichzeitig zu handhaben und eignet sich daher für die Herstellung großer Mengen an Photomasken, Retikeln und Flachbildschirmen. NIKON NSR-S204B ist mit einem 3-Spiegel-Projektionsausrichtungssystem, optimierten Scan-Algorithmen ohne Bildaufspaltung oder -überschneidung und erweitertem Ausrichtungsschutz ausgestattet. Die mit dieser Einheit erzielte genaue Ausrichtungsgenauigkeit sorgt für Integrität und eine hervorragend einfache Ausrichtung auf die Photomasken-Platzierungsstufe. Um maximalen Durchsatz und Produktivität zu erreichen, beschleunigt die S204B den Belichtungsprozess und verfügt über eine Hochgeschwindigkeitsrotationsstufe für zusätzliche Wafer im Feldbereich, wodurch mehrere Retikel gleichzeitig belichtet werden können. Dies ermöglicht eine drastische Steigerung der Effizienz und Stabilität in der Produktion. Die Maschine profitiert auch von einer zehnfachen internen Vergrößerung sowie einer erweiterten Fokustiefe, um über 0,75 �m der Schritthöhe ohne Bildverlust der Erkennung zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht ein chromatisches Fehlerkorrekturwerkzeug grobe und feine Anpassungen. Das S204B bietet auch fortschrittliche Kantendarstellungstechnologie, die eine höhere Genauigkeit im Inspektionsprozess gewährleistet. Die SNR-Technologie misst Kanteninformationen und Formverzerrungen unter Berücksichtigung etwaiger Nichtlinearitäten und liefert genauere Ergebnisse als die eines herkömmlichen Stufenschrittes. Um den Bediener vor Fehlern zu schützen, verfügt die S204B über eingebaute Fehlererkennungs- und -verhinderungssysteme, die eine ordnungsgemäße Handhabung unerwarteter Störungen oder Störungen während der Produktion ermöglichen. Das Asset verfügt außerdem über eine integrierte intelligente Ausrichtung, die eine genaue Auflösung und schnelle Positionierung ermöglicht. Abschließend ist NSR S 204 B ein leistungsstarkes, multifunktionales Wafer-Schrittmodell, das für die Herstellung von Photomasken, Retikeln, Flachbildschirmen und hochauflösenden Inspektionssubstraten entwickelt wurde. Durch die Bereitstellung einer fortschrittlichen Spiegelausrichtung, verbesserte Scanfunktionen, erhöhte Geschwindigkeit und erhöhte Inspektionsgenauigkeit ist das S204B ein leistungsfähiges Werkzeug, das für jeden Produktionsprozess unerlässlich ist. Dieses System bietet höchste Genauigkeit und Durchsatz, ohne die Bildintegrität zu beeinträchtigen.
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