Gebraucht NIKON NSR S204B #293799832 zu verkaufen
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ID: 293799832
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2000
Stepper, 6"
Wafer type: Flat
SiC Pin chuck
Resolution: ~ 0.2 µm
Exposure field: 26 x 33 mm
Reticle, 6"
Pre-alignment: NC Pre2
CYMER ELS 6400 Laser
Reticle alignment
Wafer alignment
Auto focus
Auto feeder
Wafer tilt
Wafer holder
BMU
PPD
Power supply: 200 V, 3 Phase
2000 vintage.
NIKON NSR S204B ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper für die Halbleiterherstellung. Diese Ausrüstung wurde entwickelt, um genaue Präzision und hohen Durchsatz für die Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Mikrokomponenten bereitzustellen. Es verfügt über eine robuste, hochpräzise Stufe, die einen Hochgeschwindigkeitsbetrieb unter einer Vielzahl von Prozess- und Umgebungsbedingungen ermöglicht. Das System besteht aus einer motorisierten Bühne und einer Reihe von Linsen, die zusammen die Linsenanordnung und die Bühnensteuerung bilden. Eine motorisch angetriebene Stufe wurde entwickelt, um hohe Genauigkeit und hohen Durchsatz durch die Steuerung von zwei einstellbaren Stufen, eine für Grobpositionierung und die andere für Feinpositionierung zu bieten. Die Stufensteuerung ist in der Lage, den Substrathalter in x-, y- und z-Bewegungen mit einer maximalen Genauigkeit von 0,001 mm in alle Richtungen genau zu positionieren. Die fortschrittliche Bewegungssteuerung und Bildgebung von NIKON NSR-S204B trägt dazu bei, dass die Belichtung des Wafers gleichmäßig und wiederholbar ist und Präzision und hohen Durchsatz ermöglicht. Eine automatisierte Ausrichteinheit hilft, die Belichtungszeit zu reduzieren. Der Stepper ist mit einer Vielzahl von Photomasken und Wafertypen kompatibel und eignet sich somit ideal für verschiedene Endanwendungen und Produktionsprozesse. Die Belichtungsmaschine des NSR S 204 B ist mit einer 254 nm Hochleistungs-UV-Belichtungsquelle und einer Hochleistungs-Laserbelichtungsquelle ausgestattet. Die Expositionsdauer kann in Nanosekunden oder Millisekunden angegeben werden. Die Gesamtexpositionsdosis wird automatisch berechnet und das Expositionsdosiskontrollwerkzeug verhindert eine Überbelichtung oder Unterbelichtung des Wafers. NSR-S 204 B verfügt auch über hochpräzise Detektoren und Temperaturregelungssysteme, die für eine enge Belichtungssteuerung und einheitliche Belichtungsergebnisse erforderlich sind. Es gibt auch einen Echtzeit-On-Wafer-Monitor zur Überprüfung der Expositionsqualität. Für zusätzlichen Komfort ist NIKON NSR S 204 B mit einem externen Schnittstellensteuermodell kompatibel, das die Integration mit einer werkseitigen Steuerung ermöglicht. Das System ist zudem durch eine eingebaute Luftduschfunktion vor Verschmutzung geschützt. NSR S204B ist die erste Wahl für die Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen Mikrokomponenten. Seine fortschrittliche Bewegungssteuerung, Belichtungseinheit und Kontaminationsschutz machen es zu einer zuverlässigen und genauen Maschine für anspruchsvolle Produktionsprozesse.
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