Gebraucht NIKON NSR S204B #9195220 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9195220
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
DUV Scanner, 8"
Wafer type: SNNF
Inline feed direction: Left
Sendai S36 Chamber
Lens type: 4EN2GK
Chamber temperature: 23°C
Reticle size: 6" x 6"
Field size: 25 x 33 mm
NIKON Standard reticle case
(24) Reticle slots
(2) Reticle libraries
Wafer loader: Type 3
Notch 6C, 8"
Low contact pin chuck
KOMATSU / GIGAPHOTON G20K2-1 Laser
Setup for 20 m altitude
Focus check function:
TTL-FC2
LSA, FIA Alignment chip leveling
Multipoint focus / Leveling (45 Point)
RET Shilink illuminator: 1/2, Annual, conventional, small sigma
Bottom pellicle mount
Reticle particle checker
Reticle bar code reader
Wafer carrier stage
SECS Protocol
2000 vintage.
NIKON NSR S204B Wafer Stepper ist NIKON fortschrittlichstes Modell der Stepper-Technologie. Es ist ein hochautomatisiertes, fortschrittliches Gerät, das bei der Herstellung von Siliziumwafern verwendet wird. NIKON NSR-S204B verfügt über eine Direktantriebsausrüstung, die auf einer Vielzahl fortschrittlicher Designs basiert und eine präzise und wiederholbare Positionierung des Wafers ermöglicht. Diese genaue Positionierung über mehrere Wafer kann erreicht werden, um eine größere und komplexere Struktur bzw. Vorrichtung zu schaffen. Die hochpräzisen und wiederholbaren Bewegungen des Steppers ermöglichen eine präzise Ausrichtung und effiziente Erzeugung der Bilder oder Muster auf der Oberfläche des Siliziumwafers. NSR S 204 B nutzt eine Reihe innovativer Technologien, um Aberrationen zu reduzieren und Spiegelungen zu verhindern - und gewährleistet eine hohe Genauigkeit über Wafer hinweg. Sein motorisierter Fokusvorbau und sein flexibles digitales Bildstabilisierungssystem helfen, den Eingriff des Bedieners zu vermeiden. Der Stepper enthält auch NIKON patentierte mehrstufige Deintegrationseinheit, die es ermöglicht, Muster auf mehreren Schichten der Oberfläche gleichzeitig erstellt werden. NSR-S204B ist so konzipiert, dass sie bei Temperaturen zwischen - 30℃ und +60℃ arbeitet, so dass sie über eine Vielzahl von Umweltbedingungen zuverlässig Bilder erzeugen kann. Seine ausgeklügelten laserbasierten Algorithmen ermöglichen eine präzise Submikrongenauigkeit, auch bei Wafer-zu-Ausrichtung-Arm-Abständen von bis zu 0,2 mm. Darüber hinaus gewährleistet die fortschrittliche Bildverarbeitungsmaschine eine konsistente und wiederholbare Leistung unter allen Umgebungsbedingungen. NIKON NSR S 204 B ist sowohl software- als auch hardwarekompatibel und kann daher in andere Systeme und Software von NIKON integriert werden. Diese erweiterte Funktionalität bedeutet, dass Benutzer den Stepper innerhalb der LSIA-Software steuern können. Es bietet auch optionale Board-Hardware, die es sowohl mit IBM- als auch mit Mac-Computersystemen kompatibel macht. NSR- S204B ist auch mit einer eingebauten Sicherheitsfunktion ausgestattet, um eine Fehlausrichtung des Wafers zu verhindern. Darüber hinaus ermöglicht das fortschrittliche Design des Steppers eine einfache Wartung und den Austausch von Schlüsselkomponenten. Zusammenfassend ist NSR-S 204 B Wafer Stepper ein fortschrittliches Gerät, das den Benutzern eine hochpräzise und wiederholbare Positionierung des Wafers bietet. Es verfügt über eine Reihe innovativer Technologien, die eine hohe Genauigkeit über mehrere Schichten eines Siliziumwafers gewährleisten. Dieses Gerät ist äußerst vielseitig einsetzbar und sowohl mit IBM- als auch mit Mac-Computersystemen kompatibel. Darüber hinaus verfügt NIKON NSR-S 204 B über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, die es seinen Benutzern unglaublich einfach machen, sie zu warten und ihre Schlüsselkomponenten zu ersetzen.
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