Gebraucht NIKON NSR S204B #9243041 zu verkaufen

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Hersteller
NIKON
Modell
NSR S204B
ID: 9243041
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Scanner, 8" Process: Masking Operation rack Control rack LLPP Lens purge kit Hardware: PCB Boards: LC, ALG, OPD, STG, S/G, RL, WL, Interferometer VME LSA Laser head: 3225H-PCN Reticle stage interferometer laser head: 5517D C07 (5517DL) Wafer stage interferometer laser head: 5517D C06 Reticle indexer: R150 DMCC Digital workstation Consumable: SE-0257120 Halogen lamp CYMER ELS-6400 Laser Faulty parts: ADE-Z Amp Reticle loader CT drive motor Wafer loader OF unit - Pre aligner linear guide (4) VRA CCD Camera heads missing 2000 vintage.
NIKON NSR S204B ist ein modernster Wafer-Stepper für fortschrittliche Halbleiterherstellungsanwendungen. NIKON NSR-S204B kann sowohl im Multi-Patterning-Modus als auch im Single-Exposure-Modus eingesetzt werden. Sein fortschrittliches optisches System, das in der Lage ist, eine hohe Auflösung bei niedriger NA (numerische Apertur) zu liefern, ermöglicht es dem Stepper, ein hochauflösendes Muster bei hoher Durchsatzrate zu erzeugen. Darüber hinaus ist der Wafer-Stepper für eine schnelle und einfache Ausrichtung mit manuellen und Autofokus-Funktionen konzipiert. NSR S 204 B wurde mit einer umfassenden Palette von Funktionen entworfen, so dass es eine optimale Wahl für fortgeschrittene Lithographie-Anwendungen. So wurden seine Oxidationsmanagementsysteme entwickelt, um Prozesse mit geringer Defektivität bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente zu unterstützen. Zum Wafer Stepper gehört auch NIKON proprietärer „Smart Recipe Generator“, der über eine intuitive Drag-and-Drop-Oberfläche schnell optimierte Rezepte generiert. Im Wafer-Stepper ist auch eine UHV-Kammereinheit enthalten, die Defekte durch Oxidation und Verschmutzung verhindert. NSR S204B umfasst auch eine Reihe von aktiven und passiven Bewegungssteuerungssystemen, die eine höhere Genauigkeit und einen größeren Durchsatz ermöglichen. Seine zweiachsige Stufensteuerung ist in der Lage, hochpräzise Muster mit einer Abtastgenauigkeit von bis zu 10 nm bei Verwendung einer 10 μ m Schrittweite bereitzustellen. Der Wafer-Stepper verfügt außerdem über ein Hochgeschwindigkeits-Zoommodul, das eine Mustererneuerung ohne manuelles Zurücksetzen ermöglicht. Darüber hinaus kann NIKON NSR-S 204 B eine hochpräzise Musterausrichtung erzielen, sowohl mit einer hochpräzisen Projektionsoptik als auch mit Ausrichtmarken. Seine Overlay-Genauigkeit bei der Verwendung von NIKON proprietären ICF (Image Circle Fit) maximiert die Leistung auf mehreren Substraten, was zu einer höheren Ausbeute und Zuverlässigkeit der Geräte führt. Insgesamt ist NSR-S 204 B ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der speziell für hochpräzise Musteranwendungen entwickelt wurde, wie z. B. die Fertigung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente. Dies macht es zu einer idealen Wahl für fortschrittliche lithographische Ansätze, wie Multimuster, Niederspannungslithographie und ultra-niedrige kritische Dimension Halbleiterprozesse. Hohe Auflösung und hoher Durchsatz werden mit ausgezeichneter Prozesssteuerung und Verwaltbarkeit kombiniert, was NIKON NSR S 204 B zu einer idealen Wahl für die Herstellung moderner Halbleiterbauelemente macht.
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