Gebraucht NIKON NSR S204B #9244030 zu verkaufen

NIKON NSR S204B ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper für überlegene Leistung in der Mustertransferproduktion. Seine leistungsstarke Lichtquelle und seine fortschrittliche Optik machen es zu einem idealen Werkzeug für die Herstellung hochauflösender Photomasken mit Nanometermerkmalen. NIKON NSR-S204B ist mit modernster Scanneroptik und einem superlativen Beleuchtungssystem ausgestattet. Die Lichtquelle am NSR S 204 B ist eine UV-Entladungslampe mit einer maximalen Leistung von 2,2 kW. Auf diese Weise kann der Stepper einen hohen Durchsatz und geringe Verzerrungen erzielen und gleichzeitig hervorragende Linienbreiten und Trennungen erzielen. Die Optik auf NIKON NSR-S 204 B wurde speziell entwickelt, um eine präzise Ausrichtung und Fokussierung auch bei der Abbildung von Mustern mit kleinen Funktionsgrößen zu ermöglichen. NIKON NSR S 204 B ist mit einer Hochgeschwindigkeits-piezoelektrischen Bewegungsplattform ausgestattet, die es ermöglicht, Wafer im optimalen Belichtungsbereich exakt zu positionieren, um die besten Musterübertragungsergebnisse zu erzielen. NIKON S204B verfügt zudem über ein vollautomatisches Maskenübertragungssystem, das Maskengrößen bis zu 8 Zoll handhaben kann, sowie fortgeschrittenere Programme für komplexere Prozesse. Es enthält Optionen wie Autofokus und automatische Positionierung, die es dem Bediener ermöglicht, den perfekten Belichtungsbereich vor der Aufnahme schnell und genau zu lokalisieren. NIKON S204B verfügt zudem über ein integriertes, berührungsloses Fehlererkennungssystem, mit dem der Bediener Probleme vor weiteren Produktionsschritten schnell erkennen und beheben kann. Wenn Sie nach einem Wafer Stepper suchen, der hohe Präzision und Zuverlässigkeit in der Mustertransferproduktion bietet, ist NSR-S 204 B eine ausgezeichnete Wahl. Es kombiniert leistungsstarke, langlebige UV-Lichtquellen mit fortschrittlicher Optik und einer piezoelektrischen Hochgeschwindigkeitsbewegungsplattform, was es zu einem großartigen Werkzeug für die Produktion von Photomasken im Nanometermaßstab macht.