Gebraucht NIKON NSR S205C #9260061 zu verkaufen
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ID: 9260061
KrF Scanner, 8"
Main lens:
Lens type: 4EN3
Magnification: 1/4
Light-source: KRF-Line, 248 nm
Resolution:
Conv (150 nm)
RET (130 nm)
Lens: 0.60 ~ 0.75
Exposure filed size: 25 x 33 mm
Control and lens adjust system: Inner-MAC
System hardware:
Computer: DS Type
Reticle size: 6"
Variable reticle microscope
Alignment sensor:
Laser Step Alignment (LSA)
Field Image Alignment (FIA)
No Laser Interferometric Alignment (LIA)
Aeial Image Sensor (AIS)
ALG-AF Alignment
Illumination system: CORE + RET
Interferometer system:
Wafer stage
Reticle stage
Focus system: Multi focus (7x7 Point)
Leveling system: Multi leveling(7x7 Point)
Wafer loader:
Type 4
Notch type
Wafer size: 8"
Wafer cassette: Single cassette
Wafer in-line: Left in-line
Wafer Pre-Align2 type: Non contact
Interface type: ACT 8
Reticle loader: 2-Library / 24-Slot
Control rack: Right type
No signal tower
GIGA G21K2-1 Eximer laser
Maximum frequency: 2 KHz
BMU
Active Temperature Control (ATC)
(2) AMP Units: Single NEMA type
Chamber:
SENDAI S37
ASHAHI N6A-A
Temperature (BATC / CATC / LLTC2): 23.0°C
Options:
No FFU unit
LFU Unit
Booster regulator: 0.1~1.0 Mpa
Overlay data (FIA):
X: -3 nm Average
Y: 17 nm Average
X (3σ): 16 nm
Y (3σ): 15 nm
Lens inclination data:
TFD: 144 nm
AST: 33 nm
Lens distortion data:
X: -12 nm~11 nm
Y: -4 nm~8 nm
Illumination ID (L-NA / I-NA): Power / Uniformity
ID 1 (0.68 / 0.51): 1398 mW / 0.56%
ID 3 (0.68 / 0.58): 1485 mW / 1.14%
ID 6 (0.60 / 0.45): 1340 mW / 1.276%
2002 vintage.
NIKON NSR S205C ist ein Wafer Stepper entwickelt, um die komplexen Muster auf Halbleitern mit optischer Lithographie geschrieben zu behandeln. Mit Hilfe fortschrittlicher Technologien ist NIKON NSR S 205 C in der Lage, ein hochauflösendes Bild mit einer Auflösung von 1,0 Mikron oder weniger in einer Vielzahl von Anwendungen zu drucken. NSR S205C ist auf einer zweistufigen Plattform aufgebaut, deren obere Stufe eine Innovation von NIKON namens Dynamic XYZ ist und eine verbesserte Genauigkeit von 0,6 nm für die Positionierung der Wafer bietet, was ein echter Vorteil für die Lithographie mit hoher Auflösung ist. Die Ausrüstung ist auf vielen Oberflächen hochgenau, mit einer beeindruckenden Wiederholbarkeit von 1.6nm. Die untere Stufe besteht aus einem hochpräzisen High-Ass-Motor, der Geschwindigkeit und Genauigkeit über alle Bewegungen und Bewegungen liefert, die zum genauen Schreiben von Mustern erforderlich sind. NSR S 205 C ist mit der neuesten 8-Zoll-Vollfeldoptik ausgestattet, um Messzeit und Betriebskosten erheblich zu reduzieren. Mit dieser Funktion kann das System echte 8 Millionen Pixel mit einer Belichtungsgenauigkeit von 1 nm festlegen. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine konvergente Bildgebungsfähigkeit von 0,5 nm, sodass es möglichst hohe Auflösungsbilder erzeugen kann. NIKON NSR S205C ist in einem extrem langlebigen und zuverlässigen Aluminiumlegierungsschrank mit einer eingebauten Geräusch- und Wärmesteuerungsmaschine untergebracht. Das gesamte Tool wird durch eine leistungsstarke, benutzerfreundliche Steuerungssoftware betrieben, die Musterdaten und Belichtungssteuerung erleichtert. NIKON NSR S 205 C ist ebenfalls mit einem Automatisierungs-Asset integriert, um die Produktivität zu steigern und höhere Erträge zu erzielen. NSR S205C wurde entwickelt, um Halbleiter mit einer umfassenden Lösung zu versorgen, die einen hohen Produktionsdurchsatz und maximale Präzision liefert. Mit seiner hervorragenden Bildgebungsfähigkeit ist NSR S 205 C die natürliche Wahl für Unternehmen, die die höchste Leistung in der Stepper-Fertigung suchen.
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