Gebraucht NIKON NSR S205C #9308056 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR S205C
ID: 9308056
Wafergröße: 12"
KrF Scanner, 12" Magnification: 4x Wave length: 248 nm Exposure type: Static Handedness: Inline left / Right Track interfaces: TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8, ACT 12-200, ACT 12 Lens type: 4:1 MAC Real-time lens control Chamber type: Standard Chamber temperature set point: 22.2°C Variable numerical aperture: 0.6 - 0.75 sPURE Resolution Enhancement Technology (RET) RET Apertures: 1/3 Annular (LNA: 0.75) 1/2 (LNA: 0.75) 2/3 (LNA: 0.75) 2/5 (LNA: 0.75) 2/5 (LNA: 0.68) SHRINC Illuminator σ: 0.85 Quick Reticle Change (QRC) (6) Reticles, 0.25" Reticle microscope compatibility: 22.0 mm fixed Reticle loader with reticle controller Reticle barcode reader Field Image Alignment (FIA) System Laser Step Alignment (LSA) System Phase contrast FIA TTLFC2 Beam matching unit Pre-alignment 2 Wafer stage: Air bearing / Linear motors Wafer loader: Type 4 AVIS System Multipoint focus / Level Extended wafer carrier table Pellicle Particle Detector (PPD3) NIKON SECS II GEM Interface CYMER ELS6410 KrF Excimer laser source.
NIKON NSR S205C ist ein Wafer-Stepper, der speziell für Photomasken-Lithographieverfahren entwickelt wurde. Dieser Stepper verfügt über ein proprietäres statisches und kinetisches Bildgebungsgerät, das in der Lage ist, Masken für eine Vielzahl von Geräteanwendungen von Halbleitern bis zu Flachbildschirmen herzustellen. NIKON NSR S 205 C Stepper verwendet einen Hochdurchsatz-Belichtungskopf mit einer maximalen Auflösung von 6,6 μ m für überlegene Bildqualität. Es umfasst auch die neuesten NIKON-Technologien, wie hochdynamische Indexierung (HDI) und Direct Laser Writer (DLW), die eine subauflösende Bildgebung ermöglichen. Darüber hinaus ist dieser Stepper mit einem siebenachsigen mehrstufigen automatisierten Wafer-Handling-System ausgestattet, das eine präzise Ausrichtung und Platzierung von Wafern ermöglicht. Der Stepper enthält auch eine original Carl Zeiss-Varilux optische Einheit sowie NIPR (Nanometer Resolved Imaging Platform with Resolutions), um eine ausgezeichnete Auflösung und Wiederholbarkeit für eine Vielzahl von Substraten und Photomasken-Typen zu bieten. Darüber hinaus verfügt NSR S205C über eine schnelle bogenförmige Apertur-Bildgebungsmaschine mit einer Reduzierung des Energieverbrauchs. Dieser Stepper bietet auch proprietäre atmosphärische Projektionstechnologie, die einen minimalen Gasverbrauch während des gesamten Belichtungsprozesses gewährleistet. Darüber hinaus ist der Stepper in der Lage, in einem einzigen Belichtungsvorgang gleichzeitig Einzel- oder Doppelbelichtungen vorzunehmen, wodurch der Bediener eine Belichtung auf ein oder zwei Masken vornehmen kann. Das gesamte NSR S 205 C-Tool verfügt über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche mit einer leistungsstarken Bedienbarkeit, die mit einer Vielzahl von Lithographie-Simulationen und Parametern programmiert ist. Darüber hinaus ist dieser Stepper auch mit einer energiesparenden Auto-Sensing-Wafer-Speisung ausgestattet, die Energieeinsparungen sowie einen sicheren Betrieb ermöglicht. Zusätzlich automatisiert ein Auto-Autofokus-Modell den Fokussierungsprozess und erzeugt eine hervorragende Wafer-Zentriergenauigkeit. Darüber hinaus verfügt der Stepper über eine anpassbare Schnittstelle, mit der Anwender die Lithographieparameter für eine Vielzahl von Anwendungen optimieren können. Insgesamt ist NIKON NSR S205C ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der für optimierte Lithographieverfahren entwickelt wurde. Es eignet sich hervorragend für die Herstellung von Halbleitern, Flachbildschirmen, Bildsensoren und anderen bildbezogenen Produkten. Es ist mit einer leistungsstarken bildgebenden Ausrüstung und einer Vielzahl von erweiterten Funktionen ausgestattet, so dass es eine geeignete Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen.
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