Gebraucht NIKON NSR S206D #293817917 zu verkaufen

NIKON NSR S206D ist ein leistungsstarker Wafer-Stepper, der eine präzise Belichtungssteuerung und eine hervorragende Bildqualität bietet. Die Maschine ist ideal für Lithographieanwendungen wie Photomasken-Belichtung, Photolithographie und IC-Herstellung. Es wurde entwickelt, um den Anforderungen der anspruchsvollsten Halbleiterprozess- und Geräteherstellung gerecht zu werden. Der Stepper nutzt fortschrittliche Technologie, wie NIKON proprietäre Flex Focus Objektiv und die neue Reduced Dimensioning (RD) Aligner, um präzise Overlay-Genauigkeit und hochauflösende Lithographieergebnisse zu liefern. NSR- S206D ist in der Lage, eine Vielzahl von Substraten, einschließlich großer Substrate wie Glas, Silizium und Saphir, zusammen mit traditionellen Photomasken-Substraten unterzubringen. Es hat auch eine breite Palette von Belichtungsfeldern von so klein wie 5x5 Mikrometer und so groß wie 429x429microns, so dass eine präzise Lithographie Belichtung von komplizierten Mustern. NIKON NSR S206D verwendet auch das NIKON Exclusive Interval Step Mode (ISM) Alignment System, das eine präzise Geschwindigkeitseinstellung der Belichtungs- und Ausrichtungsprozesse ermöglicht und eine größere Korrelation zwischen beiden ermöglicht. Darüber hinaus verfügt NSR S206D über eine Reihe fortschrittlicher Prozesssteuerungs- und Managementsoftware, die es Anwendern ermöglicht, die Lithographie-Belichtung und andere Prozesse zu steuern und zu überwachen. Diese Software ermöglicht es Anwendern auch, ihre Lithographie-Belichtungen und andere Prozesse zu optimieren, um maximale Ausbeute und Genauigkeit zu erzielen. NIKON NSR S206D ist zudem mit einem branchenführenden Driftkompensationssystem ausgestattet, das präzisere und genauere Lithographieergebnisse ermöglicht. Schließlich ist NSR- S206D entworfen, um überlegene Zuverlässigkeit, Genauigkeit und Produktivität zu bieten, so dass es ideal für die anspruchsvollsten Halbleiterprozess- und Geräteherstellungsanwendungen ist. Mit seinem fortschrittlichen Belichtungsregler und Prozesscontroller können Anwender eine präzise Belichtungssteuerung erreichen, Belichtungsprobleme beseitigen, Belichtungszeiten reduzieren und hochauflösende Lithographie-Expositionen erzielen. Darüber hinaus gehören die Vielfalt der Funktionen, die einzigartigen Konfigurationsoptionen und die hervorragende Bildqualität zu den vielseitigsten und genauesten Wafersteppern, die es gibt.