Gebraucht NIKON NSR S307B #9261672 zu verkaufen

NIKON NSR S307B Wafer Stepper ist eine leistungsstarke Lithographieanlage, die die Strukturierung von Mikro- und Nanostrukturen für die Herstellung elektronischer und optoelektronischer Geräte ermöglicht. Das System umfasst eine laserinterferometergesteuerte Stufe, eine CCD-Kamera, eine computergesteuerte Linseneinheit, eine Mehrkammervakuummaschine und ein digitales Abbildungsverarbeitungswerkzeug. Die Anlage wurde entwickelt, um verschiedene Arten von Retikeln von 5 x 5 bis 8 x 8 Zoll (12,7 x 12,7 cm bis 20,3 x 20,3 cm) aufzunehmen und eine hochauflösende Bildgebung mit geringer Unschärfe zu ermöglichen. Das Modell ist mit einer fortschrittlichen CCD-Kamera ausgestattet, die eine zweidimensionale Abtastung der Retikel ermöglicht und eine Belichtung des gesamten Feldes oder eine Ausrichtung auf Chipebene ermöglicht. NSR S307B verfügt über eine hochgenaue und wiederholbare Laser-Interferometer-gesteuerte Stufe, die eine hervorragende vibrationsfreie Bewegung und eine hochgenaue Positionierung des Substrats oder des Retikels in drei Dimensionen ermöglicht. Die CCD-Kamera ist mit digitalen Bildverarbeitungssystemen ausgestattet, die die Geräteform von hochplexigen Retikeln codieren und Substratkonturen oder Ausrichtmarken mit hoher Genauigkeit berechnen können. Dies ermöglicht eine schnelle und genaue Ausrichtung zwischen jedem Feld. Das Gerät ist außerdem mit einem Mehrkammer-Vakuumsystem ausgestattet, das die Übertragung des Substrats oder Retikels ohne Verschmutzungsmöglichkeit ermöglicht. NIKON NSR S307B wurde entwickelt, um eine hervorragende langfristige Leistung im Produktionsumfeld zu bieten. Das Gerät ist in der Lage, große Retikel mit hohem Durchsatz und niedrigen Zykluszeiten zu verarbeiten und kann eine Vielzahl von Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 8 Zoll aufnehmen. NSR S307B Wafer Stepper wurde entwickelt, um hervorragende Kosten- und Leistungsbenchmarks bei der Herstellung von mikro- und optoelektronischen Geräten bereitzustellen. Seine CCD-Kamera, digitale Bildverarbeitungssysteme und hochgenaue Bühnenausrüstung ermöglichen einen verbesserten Durchsatz, Genauigkeit und Wirtschaftlichkeit auf Chip- und Waferebene. Darüber hinaus bietet seine Vakuummaschine eine reinraumähnliche Umgebung zur kontaminationsfreien Übertragung von Retikeln oder Substraten. Dieses Werkzeug eignet sich für unterschiedlichste Produktionsanforderungen und ist eine zuverlässige Wahl für die Hochleistungs-Wafer-Produktion.