Gebraucht NIKON NSR S308F #293776350 zu verkaufen

NIKON NSR S308F Wafer Stepper ist ein hochmodernes Belichtungswerkzeug für fortschrittliche Photolithographie-Anwendungen. Es ist eine hochpräzise und zuverlässige Plattform, die hervorragende Wiederholbarkeit und Präzision bei minimalem Eingriff des Bedieners liefert. Die Maschine verfügt über einen einzigartigen KrF (Krypton Fluorde) und ArF (Argon Fluorde) gepulsten Excimerlaser mit einer Wellenlänge von 248nm bzw. 193nm. Der 5-Achsen-Aligner mit 12-Dieleptric-Spiegel-Ausrüstung bietet Submikron-Registrierung und Overlay-Leistung. NSR S308F kombiniert eine 6 „Substrat-Ladestation und eine 8“ native oder hybride Maskenstufe mit einem Hochgeschwindigkeits-Autofokussystem. Es ist auch mit NIKON Digital Super Resolution (DSR) Technologie für präzise Bildverarbeitung und präzise Overlay-Registrierung ausgestattet. Diese fortschrittliche Technologie kann eine maximale Belichtungsfeldgröße von 355mm liefern. Der Wafer-Stepper verwendet eine hochauflösende Abbildungseinheit mit zwei wählbaren Abbildungsrichtungen, die 25 Nanometer genau sind. Die bildgebende Maschine ist mit dem DSR-Werkzeug gekoppelt, um korrigierte Bilder mit noch feinerer Auflösung zu versehen als mit herkömmlichen bildgebenden Systemen erreichbar. Für präzise fehlerfreie Belichtungen verfügt NIKON NSR S308F über eine hochdynamische Substratstufe mit fortgeschrittenem Luftlager. Dieses einzigartige Merkmal ermöglicht eine präzise Substratausrichtung und eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit durch ein schwingungsarmes, L-förmiges Design. Darüber hinaus kann der Wafer-Stepper mit einem vollautomatischen Asset ausgestattet werden, einschließlich eines Moduls IM-net Model, das eine fehlerfreie Prozesssteuerung mit Echtzeit-Fehlererkennung bietet. Es verwendet auch NIKON Smart Manager-Software, die eine automatische Rezeptanpassung und eine benutzerfreundliche Bedienung auf hohem Niveau bietet. Abschließend ist NSR S308F ein leistungsstarker Wafer-Stepper, der Genauigkeit und Zuverlässigkeit bietet. Als technologischer Fortschritt in photolithographischen Anwendungen bietet diese Maschine hervorragende Leistung, maximale Belichtungsfeldgröße sowie verbesserte Fehlererkennung und Verarbeitungssteuerung.