Gebraucht NIKON NSR S322F #293665226 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR S322F
ID: 293665226
Wafergröße: 12"
Scanner, 12" Wavelength: 193 nm Lens-NA: 0.92 Exposure field: 26 x 33 mm Reduction ratio: 1:4 Resolution: ≤ 65 nm Single machine overlay: ≤ 2 nm Mix and match overlay: ≤ 5 nm Throughput: 300 mm Lens data included.
NIKON NSR S322F ist ein revolutionärer Wafer-Stepper, der eine breite Palette von Möglichkeiten für die Halbleiterherstellung bietet. Diese Stufen- und Wiederholungsausrichteinrichtung ist für hochauflösende Wafer-Stepper-Anwendungen konzipiert und ist der erste Stepper dieser Art, der speziell für die Anforderungen der automatisierten Wafer-Lithographie entwickelt wurde. Es nutzt die NIKON „i“ -Serienoptik, die ausgezeichnete Feldebenheit, Oberflächenrauhigkeit und hochauflösende Bildgebungsfunktionen bietet. NSR S322F ist in der Lage, Wafergrößen bis 200 mm Durchmesser - der größte Durchmesser, der derzeit für die Herstellung von Wafern zur Verfügung steht. Es verfügt auch über ein 4-Zoll-Vision-System mit erweiterten Funktionen wie vollständige Bildaufnahme und Nähte, Boost-Modus und Phasenfüllfähigkeit. Darüber hinaus ermöglicht die integrierte automatische Fehlerüberprüfung (ADR) die Erkennung und Behebung von Fehlern oder Inkonsistenzen auf dem Wafer vor dem Versand. NIKON NSR S322F hat auch eine hohe geometrische Genauigkeit mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von 0,5 Mikrometern. Dadurch ist es in der Lage, große, präzise geformte Bauteile ohne verzerrungs- oder verzerrungsbedingte Effekte herzustellen. Darüber hinaus bietet dieser Stepper einen Durchsatz von bis zu 900 Wafern pro Stunde mit 8-Zoll oder 12-Zoll-Maske und bietet eine Öffnungsgröße von bis zu 0,5 Mikron bei einer optischen Strahlgröße von 0,4 Mikron. Schließlich ist NSR S322F mit einer energieeffizienten optischen Quelle konzipiert, die eine höhere Stabilität und Energieeinsparung während des Betriebs ermöglicht. Dieser Stepper bietet auch eine hervorragende Temperaturregelung für eine optimale Auflösung, so dass Benutzer den Fokus der Maschine auch unter hohen Temperaturbedingungen leicht einstellen können. Darüber hinaus umfasst es auch ein zentralisiertes Steuerwerkzeug, das einen einfachen Zugriff auf die vorgesehenen Schrittparameter bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Wafer am effizientesten verarbeitet werden und eine optimale Leistung und Produktqualität bieten.
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