Gebraucht NIKON NSR S609B #293817904 zu verkaufen
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ID: 293817904
ArF Scanner
Numerical Aperture (NA): 1.07
Resolution: 60 nm
Throughput (WPH): 130.
NIKON NSR S609B ist ein Waferstepper, der in einer Vielzahl von Lithographieverfahren eingesetzt wird. Es ist entworfen, um Muster auf Halbleiterscheiben genau und präzise herzustellen. NSR S609B verwendet fortschrittliche hochpräzise Optik- und Beleuchtungstechniken, gepaart mit schneller und zuverlässiger Hardware und Software, um genaue und präzise Musterungen durchzuführen. Es ist in der Lage, extrem hochauflösende Bilder auf Wafern zu erzeugen. NIKON NSR S609B ist eine lichtquellenbasierte Ausrüstung. Es verwendet eine KrF excimer Hochleistungslaserlichtquelle mit einer Gasverfügungskonfiguration, um einen einheitlichen Balken mit einer großen Tiefe des Fokus zu erzeugen. Die Lichtquelle verfügt auch über Technologien wie Mehrstrahlformung, optische Stabilisierung und Belichtungsdimensionierung, um den Durchsatz zu erhöhen und Abfall zu reduzieren. NSR S609B verfügt auch über eine Reihe weiterer fortschrittlicher Hardwareeigenschaften. Es ist mit einem starren, leichten Portal für eine schnelle und genaue Platzierung der Optik ausgestattet, die mit einem feinen Antriebsschrittmotor gekoppelt ist. Das System umfasst auch eine hochempfindliche Belichtungspositionserfassungseinheit, eine fortschrittliche Autofokusmaschine und eine breite Palette von Belichtungselementen und Messsystemen. Gesteuert wird das Tool von der Nikon5200 Software PDW, die eine einfach zu bedienende und zuverlässige Schnittstelle zur Steuerung des Wafer-Steppers ist. Es ist in der Lage, mehrere Belichtungsparameter zu steuern, einschließlich Fokus, Dosis, Wellenlänge, Belichtungszeit, Belichtungsdosis und Verschlusswinkel. Darüber hinaus ermöglicht es die Kontrolle des Expositionselements und erweiterte Wartung und Post-Exposure-Analyse-Tools. NIKON NSR S609B wurde entwickelt, um den Anforderungen der heute wachsenden Halbleiterindustrie gerecht zu werden. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Lithographieverfahren, einschließlich niedrige k1-Prozesse und doppelte Belichtungsprozesse, bei gleichzeitiger Bereitstellung der höchsten Genauigkeit und Präzision. Sein effizienter und zuverlässiger Betrieb, gepaart mit seinen fortschrittlichen Fähigkeiten, machen es zu einer idealen Wahl für alle, die an der Herstellung von Halbleiterscheiben beteiligt sind.
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