Gebraucht NIKON NSR S609B #9188831 zu verkaufen
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ID: 9188831
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Wafer stepper, 12"
CYMER XLA 240 Laser
Resolution: ≦ 55 nm
NA: 1.07
Exposed light source: ArF Excimer laser
Wavelength: 193 nm
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposing range: 26 x 33 mm
Overlap accuracy: ≦ 7 nm
Throughput: ≧ 130 wafers/hour (76-Shots)
Exposure power conversion: 4800,952 (mW/cm²)
Illumination uniformity conversion: 0.205% (Dynamic)
Wafer holder flatness, Hip flatness: 2.018 μm
Reduction magnification: 1:4
Measurement of moving mirror measuring:
Residual WX: 1.201 nm
Residual WY: 1.271 nm
Exposure of light moving stage mirror measuring:
Residual WX: 1.028 nm
Residual WY: 0.533 nm
Lens distortion:
Max X: 6.2 nm Y: 3.9 nm
Max X: -6.3 nm Y: -2.4 nm
Stepping precision (Step):
SX1: 3σ = 5.8 nm
SX2: 3σ = 6.9 nm
SX3: 3σ = 6.6 nm
SY1: 3σ = 4.0 nm
SY2: 3σ = 4.2 nm
SY3: 3σ = 4.2 nm
2006 vintage.
NIKON NSR S609B ist ein hochpräziser Wafer-Stepper, der in der Lage ist, hochmoderne Halbleiterscheiben von ausgezeichneter Qualität unter Verwendung einer Vielzahl von Retikeln wie Schrittlinse, optischem Mikroskop und Dunkelfeldlinse herzustellen. Es ist ein sehr vielseitiges Lithographie-Tool, das für die Herstellung von großen integrierten Schaltungen (LSIs), DRAMs und anderen erweiterten Speicherprodukten entwickelt wurde. NSR S609B ist ein Scanning-Aligner-Wafer-Stepper, der die Geschwindigkeit und Genauigkeit von Schrittoperationen verbessern kann. Dieses Gerät ist mit einem High-End-Scanner, einem laserbasierten Ausrichtsystem und einer Kommunikationseinheit ausgestattet, mit der Benutzer den Betrieb der Maschine von einem einzigen Terminal aus steuern und überwachen können. Die fortschrittliche Elektronenstrahloptik und die hochauflösende Schrittlinse des Geräts maximieren die Präzision von Mustern, die auf ihren Wafern erzeugt werden. Die Hervorhebungsfunktion von NIKON NSR S609B ist seine fortschrittliche AutoVisionTM Software, die in der Lage ist, Fehlstellungen in einem Maskierungsprozess zu kompensieren und es Anwendern ermöglicht, Chargenkorrekturen über eine Vielzahl von Belichtungswinkeln, Winkeln von einfallendem Licht und Wafergrößen anzuwenden. Das Tool verfügt über ein eingebautes Wafer-Überwachungselement, mit dem die Integrität von Waferoberflächen während des Schrittbetriebs überprüft werden kann. NSR S609B verfügt über eine umfangreiche Palette benutzerfreundlicher Funktionen und Technologien wie den Remote-Service-Support, Fehlertoleranzen bis zu 0,2um, Hochgeschwindigkeits-Scanning, mit dem Anwender eine reduzierte Belichtungszeit nutzen können und bis zu fünf Wafer gleichzeitig verarbeiten können. Der Stepper kommt auch mit einem Auto-Korrektur-Modell, das Unregelmäßigkeiten in der Platzierung und Platzierung Genauigkeit erkennen und analysieren können, leistungsstarke programmbasierte Ausrichtung, die hilft, Bildverzerrung zu minimieren, und eine Musteranalyse Ausrüstung, um sicherzustellen, dass der Stepper arbeitet mit der optimalen Gesamtleistung. Um sicherzustellen, dass seine Benutzer ihre Produktivität maximieren, ist das Gerät mit einem 200-Wafer-Entlader und einem 200-Wafer-Lader ausgestattet, die entworfen sind, um die unnötige Zeit und Energie in der manuellen Handhabung von Wafer-Baugruppen zu reduzieren. Dieses System verfügt auch über eine Reihe von Schutzmaßnahmen, die verhindern, dass Staub und Schmutz in die Kammer gelangen, was effektiv hilft, die Lebensdauer seiner Komponenten zu verlängern und die Wartungskosten zu reduzieren. Alles in allem ist NIKON NSR S609B ein zuverlässiger und leistungsstarker Wafer-Stepper, der für die Produktion fortschrittlicher Speicherprodukte, LSIs und DRAMs sehr empfohlen wird. Mit seiner hohen Präzision, erweiterten Funktionen und einfach zu bedienenden Bedienelementen ist NSR S609B sicherlich eine beeindruckende Wahl für diejenigen, die nach einem vielseitigen und präzisen Wafer Stepper suchen.
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