Gebraucht NIKON NSR S610C #9207261 zu verkaufen
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ID: 9207261
Weinlese: 2007
ArF Immersion scanner
Resolution: ≦ 45 nm
NA: 1.30
ArF Excimer laser
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposure range: 26mm x 33mm
Overlay accuracy: ≦ 6.5 nm
Throughput: ≧ 130 Wafers / hour (300mm) 76 shots
Main chamber
Loader chamber
SMIF Port
FOUP Port
Loader rack
Front rack
Rear rack
Sub temperature controller
Air conditioner
Amplifier rack
Power supply module
AFB
LFU
2007 vintage.
NIKON NSR S610C Stepper ist ein High-End-Wafer-Stepper, der einen wirklich integrierten Ansatz für die Photolithographie beinhaltet. Dieser Stepper verwendet ein schnelles zweistufiges Abbildungssystem, das kürzere Belichtungszeiten als herkömmliche Waferstepper ermöglicht. NSR S610C Stepper verwendet ein Hochleistungs-4-Zoll-Projektionsobjektiv, um Verzerrungen zu minimieren und Aberrationen zu reduzieren und eine hohe Qualität der Leistung zu gewährleisten. Dieser Stepper bietet auch eine einzigartige Würfelfunktion, die den Einsatz einer Vielzahl von kundenspezifischen Prozessen ermöglicht. NIKON NSR S610C Stepper verfügt über einen Multifeld-Direktausrichtungssensor, der spezifische Informationen über die Orientierung und Position des Wafers liefert. Dieser Stepper bietet auch eine breite Palette von Optionen zur Berechnung der Belichtungsdosis, mit denen Benutzer die Ausgangsqualität leicht anpassen können. NSR S610C Stepper verwendet ein fortschrittliches mechatronisches Design, das eine schnelle und präzise Ausrichtung ermöglicht, wodurch Benutzer die Zykluszeit reduzieren können. NIKON NSR S610C Stepper verfügt über ein integriertes Fokus-Servosteuerungsmodul, das eine hervorragende Wiederholbarkeit bietet und eine genau gesteuerte Fokustiefe über den gesamten Wafer garantiert. Um eine minimierte Partikeleinführung zu gewährleisten, verfügt NSR S610C Stepper über ein fortschrittliches System zur Kontrolle von Ozon und Partikeln. Dieser Stepper bietet abwechslungsreiche Wassertemperaturen von 27 ° C bis 45 ° C, um optimale Bedingungen für die Waferbearbeitung zu gewährleisten. NIKON NSR S610C Stepper bietet auch Teileprozesssteuerung (PBP) mit einer Vielzahl von Auftragsparametern, die für jede Charge von Wafern gespeichert werden können. NSR S610C Stepper integriert den hochgenauen SU-8 lasercodierten Widerstand und die Fernerkundung, um die Kontrolle über den Maskierungsprozess zu erleichtern. Dieser Stepper nutzt ein umweltverträgliches Design mit einer vollständig abgeschirmten Plasmaabgasanlage, was die Verwendung von Gefahrstoffen während der Waferbearbeitung erleichtert. NIKON NSR S610C Stepper bietet mit seinen zahlreichen anwendungsspezifischen und individuellen Modulen Modularisierungsfunktionen. Dieser Stepper ermöglicht es Benutzern, mehrere Substrate mit einer breiten Palette von Materialien und Größen zu verarbeiten, so dass sie High-End-Wafer-Produktionsanforderungen effizient erfüllen können. NSR S610C Stepper ist für hohe Genauigkeit, Geschwindigkeit und Qualität entwickelt, so dass es ein erstklassiger Wafer Stepper für Photolithographie-Anwendungen.
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