Gebraucht NIKON NSR S636E #293817898 zu verkaufen
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ID: 293817898
ArF Immersion scanner
Numerical Aperture (NA): 1.35
Resolution: 38nm
MMO: 2.1
Throughput (WPH): 280.
NIKON NSR S636E ist ein modernster Wafer-Stepper, der von der NIKON Corporation, einem weltweit führenden Anbieter von optischen Instrumenten und bildgebender Technologie, entwickelt und hergestellt wurde. Diese fortschrittliche Photolithographie-Ausrüstung wurde entwickelt, um die hohen Anforderungen von Halbleiterherstellungsprozessen zu erfüllen, speziell für die Herstellung von integrierten Schaltungen auf Siliziumwafern. Durch seine Präzisionsoptik und die neuesten Funktionen ermöglicht NSR S636E eine hochauflösende Strukturierung und Abbildung von Submikronmerkmalen auf Halbleitersubstraten und liefert so außergewöhnliche Leistung und Zuverlässigkeit in einer Produktionsumgebung. Im Zentrum von NIKON NSR S636E steht das ausgeklügelte optische System, das eine Reihe von Hochleistungslinsen, Spiegeln und Ausrichtmechanismen umfasst, um Licht präzise auf die Waferoberfläche zu fokussieren und zu projizieren. Das Gerät nutzt tiefe ultraviolette (DUV) Lichtquellen, die bei Wellenlängen unter 200 Nanometern arbeiten und die Strukturierung extrem kleiner Funktionen mit Submikron-Auflösung ermöglichen. Die fortschrittliche Beleuchtungsmaschine des Steppers kann an verschiedene Wellenlängen und Modi angepasst werden und bietet Flexibilität bei der Optimierung von Belichtungsparametern für verschiedene Arten von Lithographieprozessen. NSR S636E verfügt über eine robuste Waferstufe mit hochpräzisen Bewegungssteuerungsmechanismen, die eine genaue Positionierung und Ausrichtung des Wafers während der Belichtung ermöglicht. Das Tool unterstützt sowohl den Step-and-Scan als auch den Step-and-Repeat-Modus und ermöglicht eine nahtlose und effiziente Strukturierung mehrerer Werkzeuge auf einem einzelnen Wafer. Die Stufenkontrollanlage des Steppers enthält fortschrittliche Algorithmen für die Flugbahnplanung und die dynamische Fehlerkorrektur, die eine stabile und konsistente Überlagerungsgenauigkeit über die gesamte Waferoberfläche gewährleisten. Neben seinen optischen und mechanischen Fähigkeiten verfügt NIKON NSR S636E über eine Reihe intelligenter Automatisierungsfunktionen, um den Lithographieprozess zu optimieren und die Produktivität zu steigern. Das Modell ist mit fortschrittlicher Lithographiesoftware integriert, die automatisierte Rezepterstellung, Waferausrichtung und Belichtungsparameteroptimierung ermöglicht. Der Stepper umfasst auch In-situ-Überwachungs- und Steuerungssysteme für Echtzeit-Prozess-Feedback und sorgt für präzise und wiederholbare Musterergebnisse. Für erhöhte Zuverlässigkeit und Betriebszeit ist NSR S636E mit einer robusten thermischen Steuerung ausgestattet, um eine stabile Betriebsumgebung zu erhalten und thermische Drift während der Exposition zu minimieren. Das Wafer-Handling-System des Steppers ist für hohen Durchsatz ausgelegt, mit Unterstützung für automatisierte Wafer-Be- und Entladevorgänge. Das ergonomische Design und die benutzerfreundliche Schnittstelle machen es einfach zu bedienen und zu warten, so dass Halbleiterhersteller hohe Ausbeute und Leistung in ihren Produktionsprozessen erzielen können. Insgesamt stellt NIKON NSR S636E eine hochmoderne Lösung für fortschrittliche Anwendungen in der Halbleiterlithographie dar und bietet unübertroffene Präzision, Zuverlässigkeit und Produktivität für die Herstellung hochmoderner integrierter Schaltungen. Mit seiner fortschrittlichen optischen Maschine, Präzisions-Wafer-Bühne und intelligenten Automatisierungsfunktionen ist dieser Wafer-Stepper ein wesentliches Werkzeug für Halbleiterhersteller, die die Grenzen der Lithographietechnologie verschieben und Innovationen in der Halbleiterindustrie vorantreiben möchten.
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