Gebraucht NIKON NSR SF100 #132126 zu verkaufen

NIKON NSR SF100
Hersteller
NIKON
Modell
NSR SF100
ID: 132126
Wafergröße: 12"
i-Line steppers, 12".
NIKON NSR SF100 ist ein Wafer-Stepper, der speziell für die Feinfunktionslithographie entwickelt wurde. Der Stepper verfügt über erweiterte Ausrichtungs- und Optimierungsfunktionen, um qualitativ hochwertige lithografische Ergebnisse zu gewährleisten. NIKON NSR-SF100 Dual-Actuator XY-Bühnenausrüstung ermöglicht eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Musterplatzierung auf dem Wafer. Die Bühne beinhaltet auch ein optisches Formausrichtungssystem, ausgestattet mit 1 µm Bewegungsauflösung und ± 2 wem Ausrichtungsgenauigkeit. Darüber hinaus verfügt der Stepper über eine automatische Ausrichtungs-Rückkopplungseinheit, die Kantenplatzierungsfehler in Echtzeit genau erkennt und korrigiert und so qualitativ hochwertige Lithographieergebnisse gewährleistet. NIKON SF100 Wafer-Stepper verwendet eine fortschrittliche Beleuchtungsmaschine, die eine breite Palette von Belichtungsbedingungen unterstützt und eine hohe Produktivität mit ausgezeichnetem Belichtungs- zu Auflösungsverhältnis (E: R) bietet. Der Stepper ist außerdem mit einem Hochgeschwindigkeits-berührungslosen Wafer-Be- und Entladewerkzeug ausgestattet, das schnelle komplette Waferbelastungs- und Entladezyklen ermöglicht. NSR SF 100 bietet eine maximale Wafergröße von 400 mm und maximal 36 Belichtungsfelder pro Wafer. Es arbeitet mit SEL Design Expert und SEL Framework Software und bietet eine umfassende Reihe von Tools für überlappende Region Korrektur und Prozessoptimierung Unterstützung. Durch verbesserte TIS (Total Imaging Asset) Eigenschaften bietet NIKON NSR-SF 100 Wafer Stepper die höchsten lithographischen Ergebnisse in fortschrittlichen Geräteherstellungsprozessen. NSR-SF100 Wafer Stepper hat viele andere Funktionen, die es eine ideale Wahl für Submikron Lithographie Prozesse machen. Es verfügt über ein breit gefächertes Energiesteuerungsmodell und genaue, rauscharme Energieabtastfunktionen. Darüber hinaus verfügt der Stepper über Bildformate, unbegrenzte Parameter für optische Geräte und hohe Betriebsgeschwindigkeit, die den höchsten Durchsatz unterstützen, ohne auf Genauigkeit zu verzichten. Insgesamt ist NIKON NSR SF 100 ein fortschrittlicher Lithographie-Stepper, der überlegene Leistung und außergewöhnliche Lithographie-Zuverlässigkeit für die anspruchsvollsten Forschungs- und Fertigungsanwendungen bietet. Die fortschrittlichen Eigenschaften und die hohe Genauigkeit des Steppers machen es zur idealen Wahl für Unternehmen, die in Submikronlithographie-Prozessen überlegene Ergebnisse erzielen möchten.
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