Gebraucht NIKON NSR SF110 #293655797 zu verkaufen

NIKON NSR SF110 ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der eine optimale Leistung für heutige Mikrolithographieanwendungen bietet. Es wurde entwickelt, um einen höheren Durchsatz mit weniger Defekten zu ermöglichen. NSR SF110 ist das Vorzeigeprodukt der NIKON NSR Stepperreihe und bietet die neuesten Fortschritte in der optischen Lithographietechnologie. NIKON NSR SF110 bietet ein breites Spektrum an Funktionen und Flexibilität und eignet sich somit für eine Vielzahl von Mikrolithographieverfahren. Der Schritt-wird mit einer hoch fortgeschrittenen Hochleistungshauptaussetzungsbeleuchtungsausrüstung, mit einer optimierten numerischen Öffnung (NA) 0,78 ausgestattet. Es verfügt außerdem über ein hochauflösendes interferometrisches Kontrastsystem zur Leistungsmessung und eine Fehlererkennungseinheit mit automatisierten Fehlerkorrekturfähigkeiten. Ein wesentliches Merkmal von NSR SF110 ist seine zweistufige Basis, die das Kippen und Drehen der Waferstufe ermöglicht, wodurch die Ausrichtung auf die Belichtungslinse erleichtert wird. Der Stepper unterstützt auch feine Bühnenbewegungen und bietet eine präzise und genaue Verarbeitung des Wafers. NIKON NSR SF110 ist zudem mit einem effizienten Auto-Balancing von mehr als 30 internen Parametern ausgestattet, was optimale Einstellbedingungen für jede Waferbelichtung ermöglicht. Darüber hinaus verfügt es über eine automatische Toning-Skala-Maschine zur Einstellung der Belichtungslichtintensität, die eine höhere Belichtungsgenauigkeit bei weniger Defekten ermöglicht. NSR SF110 wird von einem Hochleistungs-Computer-Steuergerät mit einem Flüssigkristall-Display für einfache Bedienung angetrieben. Es hat eine geringe thermische Drift und eine Vibrationsreduktionsfunktion, um vibrationsinduzierte optische Fehler zu minimieren. Darüber hinaus verfügt der Stepper über ein Tool zur Erstellung von Belichtungsberichten, das dem Anwender einen umfassenden Überblick über seinen Prozess gibt. NIKON NSR SF110 Wafer Stepper kombiniert eine breite Palette von erweiterten Funktionen, so dass eine effiziente Wafer-Exposition mit minimalem menschlichen Eingriff. Seine fortschrittlichen Eigenschaften, Flexibilität und überlegene Leistung machen es zu einer großen Wahl für Mikrolithographie-Anwendungen.