Gebraucht NIKON NSR SF120/130 #293794190 zu verkaufen

NIKON NSR SF120/130
Hersteller
NIKON
Modell
NSR SF120/130
ID: 293794190
Weinlese: 2003
i-Line stepper 2003 vintage.
NIKON NSR SF120/130 ist ein führender Halbleiterstepper, der für fortschrittliche Lithographieverfahren für fortschrittliche Lithographietechniken entwickelt wurde. Es ist mit einer Lithographiekammer, einer linearen Stufe, einer Rotationsstufe und einer Manipulationsstufe aufgebaut, um Wafer und andere photolithographische Komponenten genau auszurichten und zu positionieren. Dieser Stepper verfügt zudem über eine hochzuverlässige fernokulare optische Ausrichteinrichtung, die eine präzise, hochauflösende Abbildung mit minimalen Verzerrungen und Fehlstellungen ermöglicht. NIKON Stepper ist mit einem kompakten, platzsparenden Design skizziert, das mehr als genug analytische Fähigkeiten bietet, um die Herstellung von Wafern zu erleichtern und die Produktionseffizienz und Geschwindigkeit zu erhöhen. Mit einem fortschrittlichen Vakuumsystem können exakte Belichtungsparameter und eine optimierte Umgebung erreicht werden, was die Qualität und Präzision erheblich verbessert. Darüber hinaus bietet der Stepper durch seine präzise kraftmessende Ausrichteinheit und die fortschrittliche Steuerungstechnik eine außergewöhnliche Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit. Der Wafer-Stepper ist mit innovativen Beleuchtungsquellen wie einer Unterdrückungsschicht ausgestattet, die störende Lichteffekte von Halogenlampen eliminiert. Darüber hinaus kann der Stepper eine Vielzahl von Belichtungsanforderungen erfüllen, um verschiedene Wafergrößen und -formen aufzunehmen. Es kann Wafer und andere photolithographische Materialien schnell und präzise ausrichten und positionieren, um präzise Belichtungsparameter zu erzielen, die Prozessausbeute zu verbessern und einen schnellen Durchsatz zu ermöglichen. Insgesamt ist NIKON NSR SF120/130 stepper ein leistungsfähiges und zuverlässiges Werkzeug für fortschrittliche lithographische Prozesse, das Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Flexibilität für alle Arten von Wafer-Herstellungsanforderungen bietet. Sein platzsparendes Design, fortschrittliche Beleuchtungsquellen und eine präzise Ausrichtungsmaschine bieten eine hervorragende fotolithographische Bildgebung, die die Waferbearbeitung beschleunigt und qualitativ hochwertigere Produkte liefert.
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