Gebraucht NIKON NSR SF120 #293628325 zu verkaufen

NIKON NSR SF120 Wafer Stepper ist eine hochpräzise Lithographie-Maschine für die Herstellung von Photomasken. Dieser Wafer-Stepper verwendet Multichip-Projektionsoptiken und einen vollautomatischen Aligner sowie eine Vielzahl weiterer Komponenten, um die Photomaskenproduktion mit beispielloser Genauigkeit und Stabilität anzubieten. NIKON NSR-SF120 erreicht eine hohe Bildqualität innerhalb eines kompakten Platzbedarfs und eignet sich somit hervorragend für Back-End-Prozesse wie Kontaktausrichtung, Ausrichtung und Linien-/Raum-Strukturierung. NSR SF 120 nutzt eine extrem präzise einspaltige 4-Feld-Ausrichtungsausrüstung kombiniert mit einem Open-LoopGalvo-Spiegel. Dies bietet eine extrem genaue Ausrichtung und eine höhere Rahmengenauigkeit als andere verfügbare Photomasken-Produktionssysteme und ist gleichzeitig hochgradiger konfigurierbar und einfacher zu bedienen. NSR SF120 verfügt auch über eine trockene Waferstufe, so dass sie auf die Notwendigkeit einer nassen Produktionsumgebung verzichten kann. Die in NIKON NSR SF 120 integrierte hochpräzise Projektionsoptik bietet eine bildgebende und lithographische Genauigkeit von 2,0-3,0 Mikrometern. Zusammen mit dem breiteren Sichtfeld, das das System bietet, macht es NSR-SF120 ideal für die Herstellung fortschrittlicher Photomasken und Halbleitermuster mit anspruchsvollen Formen und Geometrien. Das Gerät verfügt auch über eine erstaunliche Scan-Rate von bis zu 1m/s, so dass es für die Serienproduktion geeignet ist. NIKON NSR SF120 verfügt auch über integrierte Autofokus-Einheit, bietet ausgezeichnete Tiefenschärfe (DOF). Auf diese Weise kann die Maschine die Fokuseinstellung beim Wafer-Scannen automatisch anpassen und so in jedem Fall die höchste erreichbare Bildqualität gewährleisten. Darüber hinaus verfügt NIKON NSR-SF120 über eine schnelle automatische Batch-Ausrichtung mit der Fähigkeit, Zielmuster genau und schnell auf die gewünschten Koordinaten zu platzieren und Rundungsfehler zu beseitigen. NSR SF 120 verfügt über ein schnelles robotisches Waferaustausch (REX) -Werkzeug, das automatisch Wafer und Peeling-Platten austauscht, was einen höheren Durchsatz und geringere Arbeitskosten ermöglicht. Es beinhaltet auch eine fortschrittliche Inspektion und Kalibrierung, die präzises Charting und Wiederholbarkeit von Zielmustern einfacher denn je macht. Darüber hinaus umfasst die fortschrittliche Software einen präzisen dreidimensionalen Software-Simulator, der virtuelle Lithographie und Konturausrichtung zuverlässig und effizient ermöglicht. Insgesamt ist NSR SF120 ein hochpräziser, vielseitiger und zuverlässiger Wafer-Stepper, ideal für die Herstellung hochpräziser Photomasken. Mit modernster Optik, automatischem Prozessfluss und Batch-Aligner, schnellem Waferaustausch und präzisen Waferstufen- und Inspektionssystemen bietet NIKON NSR SF 120 das derzeit höchste Maß an Bildqualität, Durchsatz und Stabilität.