Gebraucht NIKON NSR SF120 #293817934 zu verkaufen

NIKON NSR SF120 Wafer Stepper ist eine vollautomatische Maschine, die eine hohe Genauigkeit bei Höchstgeschwindigkeiten bei maximaler Produktivität ermöglicht. Diese Maschine verfügt über eine 6-Zoll oder 8-Zoll-Wafergröße, eine maximale Feldgröße von 400mm x 400mm und eine hohe Auflösung von 0,059 μ m in doppelter Musterüberlagerung. Es ist gut ausgestattet für verschiedene Mustertechnologien und Anwendungen, wie reaktives Ionenätzen, Ionenimplantation und Trockenätzen. NIKON NSR-SF120 nutzt einzigartige Designfunktionen, die Effizienz und Genauigkeit maximieren. Mit dem Fokus auf Vielseitigkeit und Geschwindigkeit bietet NSR SF 120 ein mehrstufiges Autofokus-Feature, das eine hohe Genauigkeit bietet, um der Komplexität des modernen, selbstjustierten Mehrfachmuster-Prozesses (SAMP) gerecht zu werden. Diese Funktion verbessert auch den Durchsatz, indem sie die Fokuszeit reduziert und eine breite Palette von Wiederholbarkeit bietet, die mit früheren Technologien nicht erreichbar ist. NSR-SF120 verfügt auch über einen Impulsscanner mit hoher Beschleunigung und Verzögerung. Diese Funktion hilft, den Durchsatz zu erhöhen und die erreichbare Auflösung zu reduzieren, indem sie Hochgeschwindigkeits-Bildscannen ermöglicht. Mit einem Scanquerschnitt von bis zu 6,5 nm ist NIKON NSR SF 120 bestens darauf vorbereitet, auch den anspruchsvollsten Gießereiprozessen gerecht zu werden. Die einzigartige Beleuchtungsoptik von NSR SF120 macht es ideal für die Verarbeitung von Wafern mit ungleichmäßigen Topologien. Das Variable Edge Stray Light Illumination System (VESLI) ermöglicht optimierte optische Verteilungen, um die sich ständig ändernde Wafertopologie aufzunehmen und gleichzeitig verbesserte Lichtempfindlichkeit und Kontrast zu bieten. Dies kann zu Qualitätsverbesserungen bei der Mustergenauigkeit führen und gleichzeitig eine hohe Produktivität bieten. Um die Prozesseffizienz von NIKON NSR SF120 zu maximieren, ist eine Option mit mehreren Lichtwegen verfügbar, die eine gleichzeitige Hochgeschwindigkeitsbildgebung von zwei oder mehr Wafern ermöglicht. Dadurch kann der Zeitaufwand für Waferaustausch- und Image-Verifikationsaufgaben reduziert werden, was zu einem erhöhten Prozessdurchsatz führt. NIKON NSR-SF120 ist eine hochentwickelte, aber einfach zu bedienende Maschine, die über die erforderlichen Funktionen und Leistungen verfügt, die für die anspruchsvollsten Prozesse erforderlich sind. Es ist ein zuverlässiges und leistungsstarkes Werkzeug, das optimale Ergebnisse für alle Arten von fortgeschrittenen Musteranwendungen liefern kann, einschließlich Ionenimplantation und Lithographie auf Maskenebene.