Gebraucht NIKON NSR SF120 #9227511 zu verkaufen

NIKON NSR SF120 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper für fortschrittliche Lithographieverfahren. Es kombiniert die Vorteile eines Großblendenobjektivs mit der hohen Photoelementauflösung eines Vollfeld-Steppers. Diese Kombination ermöglicht NIKON NSR-SF120 eine hochpräzise Bildgebung und einen maximalen Waferdurchsatz bei gleichzeitig ausgezeichneter Reproduzierbarkeit auch auf Nanometerebene. Das System ist mit einer erweiterten Steuereinheit ausgestattet, die eine leistungsstarke Scan-Leistungsoptimierung zur Minimierung von Prozessvariationen beinhaltet. Seine softwaregesteuerte optische Ausrichtung ermöglicht eine genaue Platzierung des Musters auf der Waferoberfläche, was Musterübertragungsfehler reduziert. Mit überlegener Ausrichtungsgenauigkeit können Funktionsgröße und Überlagerungsstabilität innerhalb von Sub-Mikron-Ebenen aufrechterhalten werden. NSR SF 120 verwendet eine Vollfeld-Bildverarbeitungsmaschine, die im Vergleich zum einstufigen Werkzeug einen höheren Bilddurchsatz ermöglicht. Es verwendet hochauflösende Optik mit einer Blende von 0.75X und einer Feldgröße von 10,8 mm, die Muster von bis zu 7 nm kritischer Dimension (CD) ermöglicht. Zusätzlich kann das Asset Masken von 5 „bis 16“ aufnehmen. Das Modell bietet dank seiner fortschrittlichen Steuerungsausrüstung eine hervorragende Leistung in Bezug auf Wiederholbarkeit und Belichtungsstabilität. Es bietet zudem eine hervorragende Inszenierungsgenauigkeit, die höhere Produktionsausbeuten ermöglicht und den Ertrag maximiert. Zu den Merkmalen der NSR- SF120 gehören eine intuitive Konsolen-GUI für den manuellen oder Remote-Betrieb, ein integriertes Scan- und Form-Messsystem, eine Hochgeschwindigkeits-Schnittstelle für schnelle Bildübertragung, eine automatische Zentrierung für verbesserte k1-Gleichmäßigkeit und eine Speichereinheit. Um eine qualitativ hochwertige Lithographie zu gewährleisten, ist die Maschine mit einem Zweiraumwerkzeug zur direkten Beleuchtungssteuerung ausgelegt. Dieses Asset kann eine geteilte Belichtung mittels Mittenzonenbeleuchtung mit einem festen Abtastmuster und variabler Musterverschiebung liefern. NIKON SF120 bietet eine leistungsstarke Lösung für fortschrittliche Lithographieverfahren, bei denen die Genauigkeit der Bildgebung und die Präzision von Mustern entscheidend sind. Sein überlegenes optisches Modell, kombiniert mit seiner ausgezeichneten Steuerungsausrüstung und der schnellen Datenübertragung, ermöglicht einen größeren Durchsatz, höhere Ausbeute und Wiederholbarkeit. Seine hochauflösende Optik und seine ausgezeichnete Musterbildungsgenauigkeit bieten die notwendigen Werkzeuge für erfolgreiche Lithographieanwendungen.