Gebraucht NIKON NSR SF120 #9310946 zu verkaufen
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ID: 9310946
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
i-Line stepper, 12"
SMIF Type: OHT
WL In-line (FOUP: Front In-line)
Signal tower: (3) Colors
Right and left chamber
Temperature controller
Lamp cooling unit
Back side frame
(2) Lamp houses / Loader rails
Top chamber
Control panel
(3) Boxes
Automation online component: SECE
Aperture INA: 0.45
Focus system: Multi focus
Leveling system: Table
Main body:
Magnification: 1/4 Reduction
Light source: 365 nm
Resolution: 0.28 µm
Variable lens: 0.50 to 0.62 nA
Exposure filed size: 25 x 33 mm
Lens adjustment:
(5) PIEZO: 3 Axis
Lens cloudiness: Lemon skin filter
PC System hardware:
Type: DS10
Y2K Completion
No UPS system
Reticle size, 6"
Variable reticle microscope
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
No LIA
Illumination interferometer system:
Mercury ARC lamp: 5 kW
Wafer stage
Reticle stage
Wafer loader, 12"
Type 3
Port number: 1
Notch type
Hold type: Ping type
Cassette
Front in-line (EFEM)
Pre-align type: NC PRE2
No edge exposure
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
Library / Slot: (2) Indexes
Barder reader
Particle checker: PPD2
Library: Center
Control rack:
Type: Right
Cable length: Normal
s52 Chamber:
Type: Sendai chamber
Single
BATC / CATC / LLTC: 23°
Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase
Missing parts:
(4) ALG-AF Control PCB
FIA-AF Control PCB
2003 vintage.
NIKON NSR SF120 ist ein Wafer-Stepper für die fortschrittliche Photomasken-Herstellung kleiner, hochauflösender Geräte. Es wird für Nanobilder verwendet und ist in der Lage, qualitativ hochwertige Photomasken mit weniger Resist, Defekt und hohem Durchsatz zu erstellen. NIKON NSR-SF120 verfügt über eine Stepper Optics Equipment (SOS) mit einer 4 "(100mm) Maskenfeldgröße für hochauflösende Bildgebung, die für ein- bis 5-schichtige Masken geeignet ist. Die Optik umfasst auch eine 6-Achsen-Ausrichtung mit einer Genauigkeit von 0,1 um und einer Auflösung von 0,02 um für die Nanoskala-Bildgebung. Darüber hinaus verfügt der Wafer-Stepper über ein Ausrichtsystem, das eine CCD-Kamera mit 1,4 Megapixel Auflösung zur automatisierten Wafer-Bewegungserkennung verwendet, sowie eine 3-Achsen-Schwingungserkennungseinheit, die Schwingungen mit niedrigem Niveau aus der Umgebung für zusätzliche optische Stabilität erfassen kann. Der Wafer-Stepper enthält auch eine Complete Process Control Machine (CPCS), die einen hochmodernen Berechnungsalgorithmus zur Hochdurchsatzoptimierung verwendet. Das CPCS ermöglicht es Benutzern, den Belichtungsprozess in Echtzeit zu überwachen und anzupassen, um eine optimale Maskenherstellung zu gewährleisten. Darüber hinaus beinhaltet NSR SF 120 ein AVI (AutoVision Interface) Sub-Tool für zuverlässige und effiziente Photomasken-Musterbildung. Das AVI bietet eine verbesserte Musterübertragungsgenauigkeit und Automatisierung durch fortschrittliche optische Topographie- und Geometriemesstechniken. Der Wafer-Stepper bietet zudem eine erweiterte PC-gesteuerte Wafer-Manipulationsschnittstelle, mit der Benutzer die Wafer-Position schnell einrichten, überprüfen oder einstellen können. In Bezug auf Zuverlässigkeit ist NIKON NSR SF 120 mit seiner fortschrittlichen Kühlung und den robusten mechanischen und Umweltschutzmerkmalen hochelastisch und langlebig konzipiert. Der Wafer-Stepper ermöglicht es dem Anwender auch, aufgrund seiner automatisierten Waferausrichtung und Austauschfunktion einfach zwischen verschiedenen Substraten zu wechseln. Der Stepper hat eine schnelle Wafer-Ladezeit von 60 Sekunden und eine Bearbeitungszeit von 90 Sekunden für eine 4 "(100mm) Maskenfeldgröße. Schließlich kommt NSR-SF120 mit benutzerfreundlichen Wartungsfunktionen und anpassbaren Action-Tasten für optimale Leistung.
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