Gebraucht NIKON NSR SF120 #9310946 zu verkaufen

NIKON NSR SF120
Hersteller
NIKON
Modell
NSR SF120
ID: 9310946
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
i-Line stepper, 12" SMIF Type: OHT WL In-line (FOUP: Front In-line) Signal tower: (3) Colors Right and left chamber Temperature controller Lamp cooling unit Back side frame (2) Lamp houses / Loader rails Top chamber Control panel (3) Boxes Automation online component: SECE Aperture INA: 0.45 Focus system: Multi focus Leveling system: Table Main body: Magnification: 1/4 Reduction Light source: 365 nm Resolution: 0.28 µm Variable lens: 0.50 to 0.62 nA Exposure filed size: 25 x 33 mm Lens adjustment: (5) PIEZO: 3 Axis Lens cloudiness: Lemon skin filter PC System hardware: Type: DS10 Y2K Completion No UPS system Reticle size, 6" Variable reticle microscope Alignment sensor: LSA FIA AIS No LIA Illumination interferometer system: Mercury ARC lamp: 5 kW Wafer stage Reticle stage Wafer loader, 12" Type 3 Port number: 1 Notch type Hold type: Ping type Cassette Front in-line (EFEM) Pre-align type: NC PRE2 No edge exposure Reticle loader: SMIF Type (OHT) Library / Slot: (2) Indexes Barder reader Particle checker: PPD2 Library: Center Control rack: Type: Right Cable length: Normal s52 Chamber: Type: Sendai chamber Single BATC / CATC / LLTC: 23° Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase Missing parts: (4) ALG-AF Control PCB FIA-AF Control PCB 2003 vintage.
NIKON NSR SF120 ist ein Wafer-Stepper für die fortschrittliche Photomasken-Herstellung kleiner, hochauflösender Geräte. Es wird für Nanobilder verwendet und ist in der Lage, qualitativ hochwertige Photomasken mit weniger Resist, Defekt und hohem Durchsatz zu erstellen. NIKON NSR-SF120 verfügt über eine Stepper Optics Equipment (SOS) mit einer 4 "(100mm) Maskenfeldgröße für hochauflösende Bildgebung, die für ein- bis 5-schichtige Masken geeignet ist. Die Optik umfasst auch eine 6-Achsen-Ausrichtung mit einer Genauigkeit von 0,1 um und einer Auflösung von 0,02 um für die Nanoskala-Bildgebung. Darüber hinaus verfügt der Wafer-Stepper über ein Ausrichtsystem, das eine CCD-Kamera mit 1,4 Megapixel Auflösung zur automatisierten Wafer-Bewegungserkennung verwendet, sowie eine 3-Achsen-Schwingungserkennungseinheit, die Schwingungen mit niedrigem Niveau aus der Umgebung für zusätzliche optische Stabilität erfassen kann. Der Wafer-Stepper enthält auch eine Complete Process Control Machine (CPCS), die einen hochmodernen Berechnungsalgorithmus zur Hochdurchsatzoptimierung verwendet. Das CPCS ermöglicht es Benutzern, den Belichtungsprozess in Echtzeit zu überwachen und anzupassen, um eine optimale Maskenherstellung zu gewährleisten. Darüber hinaus beinhaltet NSR SF 120 ein AVI (AutoVision Interface) Sub-Tool für zuverlässige und effiziente Photomasken-Musterbildung. Das AVI bietet eine verbesserte Musterübertragungsgenauigkeit und Automatisierung durch fortschrittliche optische Topographie- und Geometriemesstechniken. Der Wafer-Stepper bietet zudem eine erweiterte PC-gesteuerte Wafer-Manipulationsschnittstelle, mit der Benutzer die Wafer-Position schnell einrichten, überprüfen oder einstellen können. In Bezug auf Zuverlässigkeit ist NIKON NSR SF 120 mit seiner fortschrittlichen Kühlung und den robusten mechanischen und Umweltschutzmerkmalen hochelastisch und langlebig konzipiert. Der Wafer-Stepper ermöglicht es dem Anwender auch, aufgrund seiner automatisierten Waferausrichtung und Austauschfunktion einfach zwischen verschiedenen Substraten zu wechseln. Der Stepper hat eine schnelle Wafer-Ladezeit von 60 Sekunden und eine Bearbeitungszeit von 90 Sekunden für eine 4 "(100mm) Maskenfeldgröße. Schließlich kommt NSR-SF120 mit benutzerfreundlichen Wartungsfunktionen und anpassbaren Action-Tasten für optimale Leistung.
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