Gebraucht NIKON NSR SF130 #293603896 zu verkaufen

NIKON NSR SF130 ist ein tiefer ultravioletter (DUV) Wafer-Stepper mit hochauflösender Linse und einstellbarer Beleuchtungsstärke, ideal für fortschrittliche lithographische Prozesse und Anwendungen. Die Ausrüstung ist in der Lage, extrem hohe Auflösungen zu erreichen, bis zu 13nm Merkmalsgröße. Dieser Auflösungsgrad ist häufig für die fortschrittliche Prozessorknotenlithographie sowie für andere fortgeschrittene Anwendungen in der Halbleiterindustrie erforderlich. NIKON NSR-SF130 Stepper verfügt über eine Reihe von Funktionen zur Leistungssteigerung. Es ist mit NIKON Enhanced OSA ausgestattet, die Funktionen auf der Oberfläche des Wafers automatisch erkennen kann, um die Belichtungseinstellungen zu optimieren. Das System weist außerdem ein bogenförmiges Fenster auf, das Positionsfehler kompensiert, die während der Bewegung des Wafers beim Belichten auftreten können. Darüber hinaus verfügt NSR SF 130 über ein optisches Abtastmodul mit vier Ports, um Mehrstrahl-Abtastfunktionen zu erleichtern. In Bezug auf die Auflösung ist NSR-SF130 in der Lage, 13 nm Bilder durch seine erweiterte zweiphasige vierstufige Linseneinheit zu erzeugen. Es kann auch Belichtungsfelder bis 300 x 400 mm im Bereich und mit einer Geschwindigkeit von bis zu 480 Wafern pro Stunde erzeugen. Als Ergebnis, die Maschine kommt mit einer Vielzahl von Optionen für eine Vielzahl von anspruchsvollen lithographischen Anwendungen. NSR- SF130 ist auch hoch konfigurierbar, mit einer großen Auswahl an Belichtungswellenlängen, Beleuchtungsstufen, Belichtungsfeldern und programmierbaren Waferübertragungssystemen. Es verwendet ein hochauflösendes CCD-Bildgebungstool, das schnell Belichtungs-Feedback liefern kann, so dass das Asset notwendige Anpassungen in Echtzeit vornehmen kann. Schließlich ist NIKON NSR SF 130 Modell äußerst benutzerfreundlich, mit einfacher Grafik und einfach zu bedienenden Operationen konzipiert. Die intuitive Benutzeroberfläche kann verwendet werden, um Daten einzugeben, die Belichtungseinstellungen anzupassen und die Belichtungsergebnisse zu überprüfen. Das Gerät verfügt außerdem über eine Reihe fortschrittlicher Softwarefunktionen wie Belichtungsüberwachung, Fehlerüberprüfung und Prozesszuordnung. Alle diese Funktionen wurden entwickelt, um den Lithographieprozess zu optimieren und es den Betreibern zu erleichtern, Effizienz und Genauigkeit zu erhalten.