Gebraucht NIKON NSR SF130 #9207085 zu verkaufen

Hersteller
NIKON
Modell
NSR SF130
ID: 9207085
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
i-Line stepper, 12" Reticle, 6" Wavelength: 365 nm Surface illumination (Standard): 1000 [mW/c m]/more Reduction ratio: 1 : 4 Throughput: FIA-EGA: 120 Wafer/hour or more LSA-EGA: 96 Wafer/hour or more Step pitch: 25 nm x 33 mm 76 Shots (Wafers, 12") Exposure amount: 90 mJ/c m² Resolution: 280 nm / Less Alignment accuracy: 35 nm / Less (M+ 3σ) Lighting NA: I-NA: 0.43 CONV I-NA: 0.36 CONV I-NA: 0.50 2/3Ann Projection lens NA: Variable 0.50~0.62 VRA Angle / Exposure range (Scan field): 26 x 33 mm, 25 x 33 mm Wafer alignment: FIA/LSA LC Control: Adjust only 25 x 33 mm 2004 vintage.
NIKON NSR SF130 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper mit hoher Genauigkeit, der zur Herstellung fortschrittlicher hochdichter Bauelemente auf Halbleiterscheiben verwendet wird. Es verwendet eine hochauflösende, Großfeld-Bildabtast- und Musterausrichtungsausrüstung sowie einen fortschrittlichen schrittweisen Abtastkontrollmechanismus und ein einzigartiges Belichtungskontrollsystem, das eine gleichmäßige und genaue Belichtung gewährleistet. NIKON NSR-SF130 basiert auf einer modularen Bauplattform für optimale Flexibilität in der Wafer-Handhabung und erweiterten Feldgrößen. Es ist mit einer lithographischen Abtaststufe ausgestattet, die sehr schnell scannen kann, mit einer Erkennungsgenauigkeit von 0,0025mm und einer Feldgröße von 5 „bis 12“ (Linienpaar) für die große Werkzeugproduktion. Der Stepper verfügt über eine erweiterte Bildübertragungseinheit (ITS), um eine optimale Bildqualität zu gewährleisten, mit einer 5m-Pixel-Kameramaschine und einem Verschlussbohrungsdurchmesser von bis zu 65mm für erweiterte Waferausrichtungsgenauigkeit. Das Steuerwerkzeug funktioniert als eine Einheit mit den Beleuchtungs- und Autofokus-Komponenten für die fortgeschrittene Bildgebung. NSR SF 130 nutzt seine einzigartige Belichtungssteuerung mit einer langreflektierenden Lichtquelle, um eine gleichmäßige, hochgenaue Belichtung zu gewährleisten. Es verfügt über eine ausgezeichnete Feldebene sowie erweiterte Würfel- und Lithographieanweisungen, die eine fortschrittliche Lithographiemustererkennung und -optimierung ermöglichen. Der Stepper verfügt über eine zylindrische Linse, die ein variables Seitenverhältnismodell und eine Ausrichtung in der Y-Achse für eine hohe Gleichmäßigkeitsbelichtung verwendet. Die fortschrittliche Steuerungsausrüstung verfügt über Feldzentrierung für eine genaue Waferausrichtung sowie eine verbesserte Drehausrichtung für eine gleichmäßige Belichtung. NIKON NSR SF 130 wird von einer fortschrittlichen Computerplattform mit einem sehr robusten Betriebssystem und einer Software angetrieben, die für hohe Leistung und geringe Wartung sorgen. Die Software umfasst erstklassige Ausrichtungsprogramme und Mustererkennungsfunktionen. Darüber hinaus sorgt die Belichtungssteuereinheit für optimale Effizienz und ermöglicht eine genaue Belichtung bis zu 0,12-Meter-Größenlinie/-raum. Es verfügt auch über neue Belichtungssteuerungstechnologie, einschließlich optimierte Bühnenintegration, Flachfeldgenauigkeit, verbesserte Bildqualität und Weitfeldgröße. NSR- SF130 ist von SEMI SECS-II zertifiziert und entspricht SEMI- PV2-0375. Es ist ein effizienter und zuverlässiger Wafer-Stepper für die fortschrittliche lithographische Verarbeitung.
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