Gebraucht NIKON NSR SF130 #9311380 zu verkaufen

NIKON NSR SF130 Wafer Stepper ist eine fortschrittliche Lithographie-Ausrüstung zur Unterstützung der Halbleiterproduktion. Dieses System bietet eine erweiterte optische Abbildungseinheit mit Präzisionsstufenbewegung, um hochauflösende Funktionen auf dem Halbleiterwafer zu erzeugen. NIKON NSR-SF130 ist eine 6-Zoll-Lithographiemaschine, die mit einem fortschrittlichen bildgebenden Werkzeug mit einer Reduktionsprojektionslinse mit einer NA von 0,25 und einer hohen numerischen Aperturlinse von bis zu 0,6 entwickelt wurde. Das Asset unterstützt mit einem dynamischen Bühnenmodul große Bühnenbewegungen von bis zu 1 mm. Auf diese Weise kann das Modell einen Fokus im gesamten umfangreichen Bewegungsbereich beibehalten. Die Bildebene, Schlitz- und Fokuserkennung wird durch ein integriertes Hochgenauigkeits-Laserinterferometer für effiziente Wafer-Positionierung und Lithographie ermöglicht. Die Ausrüstung bietet ein Standard Pellicle Loader und Maskierungssystem, um eine aufgabenspezifische Genauigkeit beim Handling und Shimming der Masken zu gewährleisten. NSR SF 130 wird von einer fortschrittlichen Steuereinheit mit einer intuitiven NC-Computereinheit mit fortschrittlicher Intelligenz und integrierten NC-Anwendungen angetrieben. Die Maschine umfasst Funktionen zur automatischen Ausrichtung und zum Autofokus, die eine präzise Strukturierung und genaue Registrierung ermöglichen. Zusätzlich unterstützt das Werkzeug die automatische Rahmenkorrektur für eine bessere Maskenpositionierung. Das Asset unterstützt mehrere Expositionstechniken, darunter 0,5-8um, tiefes UV, tiefes Röntgen, sichtbare und verschiedene fortgeschrittene Techniken. Der Auflösungsbereich beträgt 0,1um oder besser und die maximale Wafergröße von 6 Zoll ermöglicht eine schnelle Produktion. Darüber hinaus bietet das Modell eine fortschrittliche Prozessanpassung, um ein konsistentes Lithographiemuster in jeder Phase zu gewährleisten. NSR-SF130 Wafer Stepper bietet eine zuverlässige und effiziente Basis für die Halbleiterproduktion. Seine moderne bildgebende Ausrüstung und präzise Steuerung bieten Benutzern eine hochauflösende Lithographie mit überlegener Genauigkeit und Geschwindigkeit. Seine Vielfachbelichtungstechniken und Unterstützung für verschiedene fortschrittliche Lithographietechniken machen es zu einer idealen Wahl für mittel- bis hochvolumige Halbleiterproduktionsanlagen.