Gebraucht NIKON NSR SF130 #9351292 zu verkaufen

NIKON NSR SF130
Hersteller
NIKON
Modell
NSR SF130
ID: 9351292
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2004
i-Line stepper, 12" 2004 vintage.
NIKON NSR SF130 ist ein leistungsstarker, produktivitätssteigernder Wafer-Stepper. Die Ausrüstung ist entworfen, um hochpräzise Wafer Musterung mit minimalem manuellen Eingriff durchzuführen. Es eignet sich für verschiedene Anwendungen wie Mikrolithographie und medizinische Geräte. Das System verfügt über eine fortschrittliche optische Einheit bestehend aus einer motorisierten Bühne, Präzisionsoptik und digitalen Controllern. Dies ermöglicht eine genaue Ausrichtung und Positionierung von Wafern in der Maschine sowie eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit der Strukturierung. NIKON NSR-SF130 auch mit einem hochpräzisen digitalen Steuerungswerkzeug ausgestattet. Dies ermöglicht eine präzise Strukturierung und Belichtung Prozesskontrolle, um die Qualität der Musterung zu gewährleisten. Es verhindert auch Fehler durch Bedienungsfehler. Es verfügt über eine große 13-Zoll-Bühne mit einem geschlossenen Bewegungselement, das sicherstellt, dass der Wafer jedes Mal genau positioniert wird. Das Modell verfügt über eine Auflösung von 10cm oder 13mm und ermöglicht eine hochpräzise Musterung und Registrierung von Wafern. Es verfügt auch über eine ultraschnelle Belichtungsausrüstung. Mit NSR SF 130 erreichen Anwender eine Mustergeschwindigkeit von bis zu 150 Wafern pro Stunde. Dies macht es ideal für große Produktionsläufe sowie Forschungs- und Entwicklungsumgebungen. Das System ist für NIKON- MircoNic™ und Trockenätzverfahren optimiert und somit die ideale Wahl für Ingenieure und Wissenschaftler, die einen zuverlässigen und präzisen Wafer-Stepper benötigen. NIKON NSR SF 130 ist auch mit automatisierter Ausrichtung und Maskierung ausgestattet. Dies ermöglicht es dem Anwender, Wafer schnell und präzise zu mustern, wodurch der manuelle Eingriff reduziert wird. NSR SF130 ist eine ausgezeichnete Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen und bietet präzise und zuverlässige Wafer-Musterung mit minimaler Benutzereingabe. Mit seiner fortschrittlichen Optik und präzisen digitalen Steuerungen eignet es sich sowohl für Forschung und Entwicklung als auch für die Produktion und kann problemlos mit großvolumigen Arbeitslasten umgehen.
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