Gebraucht NIKON NSR SF200 #293794197 zu verkaufen

NIKON NSR SF200 Wafer Stepper ist ein hochmodernes Lithographiesystem, das entwickelt wurde, um hochpräzise Muster der Mikron-Auflösung in Wafer- und Maskenlithographieanwendungen zu erzeugen. Mit einer innovativen High-Speed-Scan-Option und bahnbrechender Laserdiodentechnologie bietet NIKON NSR SF 200 Wafer Stepper Anwendern beispiellose Präzision und Genauigkeit für die Herstellung von hochpräzisen mikrofluidischen Geräten, Mikroelektronik, photonischen Komponenten onen und anderen Anforderungen. Herzstück von NSR SF200 Wafer Stepper ist seine hochauflösende Stepper-Scan-Stufe. Seine maximale Beschleunigung von 4G ermöglicht es der Stufe, Geschwindigkeiten von bis zu 8.000 Wafer/Maske Schreibschritte pro Sekunde zu erreichen, bietet beispiellose Ebenen der Scangenauigkeit und Wiederholbarkeit. Der Stepper verfügt auch über orthogonale Scan-Technologie, um keine Neigung oder Neigung der gemusterten Merkmale zu gewährleisten, die zu niedrigen Geräteausbeuten und fehlerhaften Ergebnissen führen kann. NSR SF 200 Wafer Stepper verwendet die neuesten Generationen von Laserdioden und LED-Technologien, um höchste Präzision und Genauigkeit in der lithographischen Musterung zu gewährleisten. Seine fortschrittliche Laserdiodentechnologie liefert die genaueste Punktgröße und Lichtverteilung für maximale Mustertreue und höchste Qualitätsleistung. Die fortschrittliche LED-Technologie bietet einen breiteren dynamischen Belichtungsbereich, der größere Musterdetails bei verschiedenen Resist-Layouts ermöglicht. Weitere Fortschritte von NIKON NSR SF200 Wafer Stepper sind die integrierten kristallinen Linsen mit hoher Kapazität, die Aberrationen und Verzerrungen des Ausgangslichts reduzieren. Dies sorgt für ein gleichbleibend hochwertiges Musterergebnis. Das System verfügt auch über eine fortschrittliche computerbasierte Bildverarbeitungstechnologie, die schärfere Bilddaten ermöglicht, ohne auf Ertrag oder Auflösung zu verzichten. Schließlich tragen die fortschrittlichen Kontrollen von NIKON NSR SF 200 Wafer Stepper zu einem optimalen Lithographieergebnis bei. Die CCD-Optik in Verbindung mit integrierter automatisierter Mustererkennungstechnologie bietet höchste Auflösung und Wiederholbarkeit in Lithographie-Produktionsprozessen. Seine fortschrittliche Servosteuerung ermöglicht die höchste Präzision Ausrichtung und Positionierung des Geräts, während seine Präzisionsbewegungssteuerungssoftware vielseitige automatisierte Lithographieoperationen ermöglicht. Abschließend ist NSR SF200 Wafer Stepper die erste Wahl für ein Lithographiesystem, das beispiellose Präzision und Genauigkeit bei der Erzeugung tiefer Submikronmuster bietet. Es verfügt über die neueste Generation von Laserdioden und LED-Technologien, fortschrittliche computerbasierte Bildverarbeitung, kristalline Linsen mit hoher Kapazität und erweiterte Steuerungen. NSR SF 200 Wafer Stepper bietet Anwendern ein zuverlässiges und hocheffizientes Werkzeug für hochpräzise mikrofluidische Geräte, Mikroelektronik, photonische Komponenten und andere Aufgaben zur Erzeugung von tiefen Submikronen.