Gebraucht NIKON NSR TFH EX14C #9276258 zu verkaufen

NIKON NSR TFH EX14C ist ein hochmoderner Deep-UV-Wafer-Stepper für hohe Produktivität. Ausgestattet mit einer Hochleistungs-RI (Reflection Index) -Quelle (bis zu 350W @ 248nm) bietet NIKON NSR TFHEX14C hervorragende lithografische Leistung in Raffinesse und Wiederholbarkeit. NSR TFH EX14C ist mit einer fortschrittlichen 4-Quadranten-Auto-Ausrichtung ausgestattet, die die X-Y-Positionierung von Wafern bestätigt und on-the-fly ausrichtet, um eine hochgenaue Ausrichtung von Wafern zu erreichen. Darüber hinaus helfen die Vollautomatisierungssysteme dabei, menschliche Fehler drastisch zu reduzieren, sodass NSR- TFHEX14C schnell exponieren können. NIKON NSR TFH EX14C ist in seiner Fokusebene mit einem fortschrittlichen Bildgebungssystem ausgestattet, das die Aberration der Projektionslinse kompensiert und die Beugungsbildgenauigkeit auf ± 3µm aufrechterhält. Es ist in der Lage, 7nm Auflösung und 0.1µm Genauigkeit bei der Erzeugung feiner Muster des Geräts. Die Reflex Source Unit von NIKON NSR TFHEX14C verbessert die Gleichmäßigkeit der Bildbelichtung, indem die Lichtquelle mit entsprechender Lichtdispersion auf den Wafer gerichtet wird. Die Reflex Source Machine verfügt über hervorragende Eigenschaften wie die Fähigkeit, die Variation von Schuss zu Schuss zu reduzieren, und reduziert auch die Layoutclustering erheblich. Die fortschrittliche hohe NA-Optik reduziert die Belichtungszeit von 2 bis 10 Mal im Vergleich zu hoher NA-Optik und bietet viel kürzere Belichtungszeiten. Es bietet eine überlegene Bildgebungsleistung mit einer um 20% verbesserten Tiefenschärfe sowie eine verbesserte Fokussierungsfähigkeit an der Quelle, die defokussierte Muster genau reproduziert. Die erweiterte Leiterplatte (Process Control Board) von NSR TFH EX14C verbessert den Durchsatz und die Allgemeinheit des Belichtungswerkzeugs. Darüber hinaus verfügt es über eine intuitive und einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche mit benutzerfreundlichen Navigations- und Managementfunktionen, mit denen Bediener mehrere Prozesse effizient überwachen und steuern können. Schließlich ist NSR- TFHEX14C mit einem Massenquellen-Asset ausgestattet, das eine hervorragende Quellenergieverwaltungsfunktion bietet, die potenzielle Quellenergieprobleme verhindert. Dies bedeutet eine sehr stabile Belichtungsleistung. NIKON NSR TFH EX14C ist der ideale Wafer-Stepper für die großvolumige Belichtungswafer-Lithographie. Es wurde entwickelt, um hohe Produktivität und überlegene lithographische Leistung zu bieten und gleichzeitig menschliche Fehler drastisch zu reduzieren.