Gebraucht NIKON NSR TFH i12 #9197998 zu verkaufen

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Hersteller
NIKON
Modell
NSR TFH i12
ID: 9197998
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1998
Photolithography stepper, 6" SEIKOSHA BP-4500 Computer controller VIEWSONIC Flat screen monitor Keyboard Mouse Control cabinet Wafer loader: Type 2 left inline Reticle loader: (13) Slots single library Inline: Left type Wafer loader: WL-12 v2.30 13V4.50 OF-12 v2.30 B4V3.20 WR-12 v2.50 WLY-11 v1.30 10V2.11 Lens controller: 71V6.80 Main computer: NIKON NEST V VAX Station: 4000.96 Tape driver: DAT40 Chamber type: SENDAI S19 Chamber temperature: 20.0 IATC Temperature: 20.1 LLTC Temperature: 20.32 Compressed air (at 50 liter/min flow): 3.1kg/cm2 Vacuum pressure (at 50 liter/min flow): -600mmhg Process cooling water flow rate (at 20°C): 35 liter/min LLTC Coolant flow rate: Atmospheric pressure: 835.78 Hpa Refrigerator pressure: Set point: High: 1.3~1.5 (actual 1.4) Low: 0.35~0.55 (actual reading 0.38 1998 vintage.
NIKON NSR TFH i12 ist ein modernster Wafer-Stepper, der von NIKON entwickelt wurde, um die Herstellung von Halbleiterbauelementen zu unterstützen. Der Wafer-Stepper ist für hochpräzise und produktive Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie ausgelegt. Die Kombination aus hoher Auflösung, hohem Durchsatz und Kompatibilität mit Lithographiezielen mit hohem Seitenverhältnis macht es ideal für eine Vielzahl von Geräteherstellungsprozessen. NIKON NSR-TFHI12 verfügt über zwei Betriebsarten Scannen und Schritt und Wiederholen. Im Scan-Modus wird wiederum ein Retikel mit einem Muster über die Oberfläche eines Wafers gescannt. Das Muster wird mit jedem Durchgang des Scanners auf dem Wafer freigelegt. Im Modus Schritt und Wiederholen wird ein einzelnes Bild auf viele Teile des Wafers abgebildet. Der Wafer wird dann zwischen Belichtungen bewegt, so daß die aufeinanderfolgenden Belichtungen alle durch vorbestimmte Vergrößerung und Basis mit Basisverschiebung in Beziehung stehen. Um die Leistung zu maximieren, ist NSR TFH i12 mit einer Vielzahl von erweiterten Funktionen ausgestattet. Ein wesentliches Merkmal ist ein Wafer-Autoloading-System, das die Fehlausrichtung und Fehlfunktion des Wafers verringern soll. Der Stepper hat auch eine Vielzahl von Ausrichtungsoptionen, einschließlich hoher Präzision, hoher Genauigkeit Stufensuche, Inline-Scannen oder On-the-Fly-Reticle-Positionierung, um erstklassige Genauigkeit und Durchsatz zu gewährleisten. Darüber hinaus bietet es auch eine Autofokus- und Astigmatismus-Korrektur, um die beste Fokus- und Bildgleichförmigkeit zu erreichen. Die integrierte Umgebung von NSR-TFHI12 ermöglicht eine schnelle und genaue Prozesskontrolle auf jedem Wafer, Funktion für Funktion. Es ist in der Lage, eine Vielzahl von Belichtungstechniken wie Fokussierung Optimierung, erweiterte Fehlerüberprüfung, und Technologie rezeptorientierte Rezepte. Der Stepper umfasst auch ein digitales Mikroskop, mit dem Bediener das Muster jedes Retikels mit hoher Vergrößerung und Auflösung überprüfen können. Schließlich ist NIKON NSR TFH i12 für die Echtzeitproduktion konzipiert und stellt sich der Herausforderung, kostengünstig und dennoch hocheffizient zu sein. Es kann auch einfach in eine bestehende Produktionsumgebung integriert werden, was Zeit spart und eine nahtlose Produktion ermöglicht. Alles in allem ist NIKON NSR-TFHI12 eine ausgezeichnete Wahl für eine kostengünstige Wafer-Stepper-Lösung.
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