Gebraucht NIKON NSR-TFH i14 DL #9023488 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9023488
i-Line stepper, 6"
Body: i14
Wafer thickness: 1.2mm
Wafer type: Notch
Loader type: 3
Controller: VAX
GEM: Yes
Numerical aperture: 0.3-0.45
Lens data:
Distortion spec +/- 40nm
TFD spec 0.5um
AST spec 0.4um
Curvature spec 0.4um
-Pre data collection before lens optimization.
-Distortion ID1
Max vector X= 65nm, Y=51nm
Min vector X= -87nm, Y= -60nm
Reduction= 0.823
- INC ID1
TFD = 0.726
AST= 0.359
Curvature= -0.251
-Distortion ID9 (map is similar to ID1)
Max vector X= 67nm, Y=65nm
Min vector X= -69nm, Y= -57nm
Reduction= -0.742
Post data after lens optimization:
-INC ID1
TFD = 0.403
AST= 0.240
Curvature= 0.028
-Distortion ID1
Max vector X= 0.024nm, Y= 0.025nm
Min vector X= -0.043nm, Y= -0.042nm
Reduction= -0.323
-Distortion ID9
Max vector X= 43nm, Y= 32nm
Min vector X= -37nm, Y= -34nm
Reduction= 0.270
Main body is not crated
FC77 oil is in the chem support
Accessories included
Deinstalled by OEM
No lens data were collected prior to deinstall
Currently crated.
NIKON NSR-TFH i14 DL ist ein Waferstepper, der zur Durchführung von Lithographieverfahren zur Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um hochpräzise Lithographieverfahren mit branchenführender Präzision und Genauigkeit anzubieten. NIKON NSR TFH I14DL ist mit mehreren erweiterten Funktionen ausgestattet, die helfen, überlegene Lithographieergebnisse zu liefern. Sein Design umfasst eine fortschrittliche Reticle-Bühne mit einem 4-Achsen-Stufenvariationsscan und automatischen Nivellierungsfunktionen, die einen schnellen und zuverlässigen Betrieb ermöglichen. Es enthält auch eine hochwertige bildgebende Feldabflachung Linse für verbesserte Lichtgleichförmigkeit über das bildgebende Feld. Das integrierte Rückseitenausrichtsystem sorgt für genaue Waferausrichtung und Overlay-Genauigkeit. NSR-TFH i14 DL kann Bilder von bis zu 4 Mikrometern mit hervorragenden Auflösungsfunktionen belichten. Die Ergebnisse sind hochgenau mit ausgezeichneter Fokustiefe. Die fortschrittliche Optik und Beleuchtungssystem machen diesen Wafer Stepper effektiv bei der Ausrichtung auch der kleinsten Strukturen auf komplexen Substraten. Seine proprietäre Deep Ultraviolet (DUV) -Fähigkeit ermöglicht es ihm, Bilder auch mit den anspruchsvollsten Funktionen zu belichten, wodurch ein scharfes Bild mit überlegenem Kontrast entsteht. Die robuste Konstruktion von NSR TFH I14DL ermöglicht eine längere Lebensdauer ohne zugrunde liegende oder periphere Leistungseinbußen. Gebaut mit einer eigenen RPC-Modellierungssprache und einer komplexen Software-Schnittstelle bietet der Wafer Stepper eine große Flexibilität und kann nach unterschiedlichen Verarbeitungsanforderungen angepasst werden. NIKON NSR-TFH i14 DL hilft, Zykluszeiten zu reduzieren und auch bei komplexen Lithographieverfahren enge Durchlaufzeiten einzuhalten. Es bietet ein gleichmäßiges und genaues Strahlprofil und Strahlleistung und ermöglicht eine überlegene Prozessgleichmäßigkeit bei kurzer Waferbearbeitungszeit. Seine herausragenden Hardware- und Softwarefunktionen helfen, niedrigere Betriebskosten zu erzielen und gleichzeitig die Verwendung hochwertigster Substrate zu ermöglichen. Insgesamt ist NIKON NSR TFH I14DL ein leistungsstarker und zuverlässiger Wafer-Stepper für die Geräteherstellung. Seine fortschrittlichen Optik-, Retikel- und Beleuchtungssysteme ermöglichen hervorragende Visualisierungen und qualitativ hochwertige Lithographieergebnisse. Gebaut mit einer eigenen RPC-Modellierungssprache und einer komplexen Softwareschnittstelle ist der Wafer-Stepper einfach zu konfigurieren und an spezifische Anwendungsanforderungen anzupassen.
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