Gebraucht ULTRATECH 1000 #9151433 zu verkaufen

ULTRATECH 1000 Wafer Stepper ist eine Hochleistungs-Lithographie-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um kleine leitende, dielektrische und isolierende Merkmale so dünn wie 0,8 μ m auf Halbleiterscheiben zu strukturieren. Es verwendet fortschrittliche Photonenbildtechnologie, um die höchste Auflösung zu erreichen, die in einer Produktionsumgebung erreicht werden kann, unter Beibehaltung eines hohen Durchsatzes und einer genauen Platzierung der Funktionen. 1000 erreicht mit einem proprietären elektronenstrahlinduzierten Abscheidungssystem (EBID) eine überlegene Bildauflösung. Diese Einheit erzeugt eine vertikale Integration der gleichmäßigen Energieausbreitung von monochromatischem Licht, um Materialien selektiv auf dem Wafer abzuscheiden. Die Abscheidungsschicht bildet ein präzises Muster, das die in der Lithographie verwendete Maske genau wiedergibt. Die Maschine ist darauf ausgelegt, große Mengen von Substraten genau und schnell zu verarbeiten. Es verfügt über einen Einzel-Wafer-Lastanschluss, der eine breite Palette von Wafergrößen und Substraten aufnimmt. Dies spart wertvolle Produktionszeiten und reduziert die Kosten für das Be- und Entladen von Substraten. Auch die Automatisierungsfunktionen von ULTRATECH 1000 tragen zu ihrem hohen Durchsatz bei. Roboterarme können Wafer vom Lastport einsetzen und abrufen, um den Verarbeitungszyklus zu beschleunigen. Die Platzierung von Wafern wird mit fortschrittlicher Wafer-Tracking-Technologie im Rahmen des gesamten Lithographie-Workflows automatisiert. Dies erhöht den Durchsatz weiter und spart Zeit, indem mehrere Wafer parallel bearbeitet werden können. Um den Durchsatz weiter zu verbessern, ist 1000 mit erweiterten Steuerungsfunktionen ausgestattet. Alle Prozesse werden elektronisch überwacht, um Fehlstellungen durch Maschinenschütteln oder Wärmeausdehnung zu erkennen und zu korrigieren. Maschinenvibrationen können auch mit der Schwingungskontrolle des Werkzeugs isoliert werden. ULTRATECH 1000 ist auch für einfache Bedienung ausgelegt. Sein automatisiertes Positionierungsmodell berücksichtigt alle Umwelteinflüsse, um sicherzustellen, dass das erzeugte Muster mit der in der Lithographie verwendeten Maske identisch ist. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine intuitive, menügesteuerte Benutzeroberfläche für einfache Einrichtung und Bedienung. Insgesamt ist 1000 ein leistungsstarkes und hochentwickeltes Werkzeug zur Herstellung kleiner, hochgenauer Funktionen auf Halbleiterscheiben. Mit seiner überlegenen Bildgebungstechnologie, schnellen Automatisierung und flexiblen Steuerungsfunktionen bietet es Anwendern einen ausgezeichneten Durchsatz, eine hervorragende Auflösung und Genauigkeit.