Gebraucht ULTRATECH 1000 #9227855 zu verkaufen
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ULTRATECH 1000 Wafer Stepper ist ein hochpräzises Lithographie-Tool, das weit verbreitet für Photolithographie, photolithographische Prozesse und Inspektion verwendet wird. Diese Maschine wurde entwickelt, um Wafer genau zu positionieren und zu bewegen, was zu einer für die lithographische Herstellung entscheidenden Genauigkeit führt. 1000 ist in der Lage, Wafer mit einer Wiederholbarkeit von ± 50 Mikrometer zu positionieren, was eine hervorragende Auflösung bietet. Die ULTRATECH 1000 ist auf einer industrietauglichen mechanischen X-Y-Z-Plattform aufgebaut und wird mit Linearmotoren angetrieben, um eine hochgenaue Positionierung und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Es ist für bis zu vier Belichtungen hintereinander ausgelegt und bietet Platz für Arbeitsgrößen von 4x4 „bis 8x8“. Es ist mit einem Festkörperlaser, einer UV-Quelle und einem digitalen Bildgebungsgerät ausgestattet. 1000 wird von einem PC-basierten Computer mit einem Windows XP-Betriebssystem gesteuert. Es ist sehr kompatibel mit einer Vielzahl von Photolithographie und Bildmanipulationssoftware, und es ist in der Lage, eine Vielzahl von CAD-Formaten zu lesen. Es ist mit einer X- und Y-Stufenbewegungssteuerung ausgestattet, die eine präzise Bewegung über einen Bereich von 10 Mikron bis 12 Zoll mit einer Schrittgröße von bis zu 0,1 Mikron ermöglicht. Darüber hinaus ist ULTRATECH 1000 mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen wie einer Einspruchserkennungsmaschine, einem Not-Aus-Schalter und einem automatischen Auswurf für freiliegende Wafer ausgestattet. Es ist so konzipiert, dass es kontinuierlich und autonom läuft, auf Wunsch 24 Stunden am Tag. Das Werkzeug ist auch hochgenau über längere Zeiträume ausgelegt, wobei die Hauptkomponenten für Langzeitgenauigkeitsstabilität konstruiert sind. Insgesamt ist 1000 ein fortschrittlicher Wafer-Stepper, der mit seiner Kombination aus mechanischer Konstruktion, fortschrittlicher digitaler Bildgebung und Bewegungssteuerungswerkzeug eine hohe Präzision und Treue bietet. Es ist ein großartiges Werkzeug für photolithographische Anwendungen und kann von einer Vielzahl von Industrien für genaue und wiederholbare photolithographische Prozesse verwendet werden.
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