Gebraucht ULTRATECH 1500 MVS #9213339 zu verkaufen

ULTRATECH 1500 MVS
Hersteller
ULTRATECH
Modell
1500 MVS
ID: 9213339
Stepper Auto loader PC Controller.
ULTRATECH 1500 MVS ist ein fortschrittlicher Wafer-Stepper für die optische Lithographie in der Mikrochip-Fertigung. Es ist in der Lage, sehr kleine Merkmale auf einem Wafer zu produzieren, was die Zeit erheblich reduziert und die Effizienz in der Chipherstellung erhöht. 1500 MVS enthält ein großes Sichtfeld, das es ermöglicht, auf größeren Wafern oder Gruppen kleiner Wafer gleichzeitig zu arbeiten. Es ist mit einem 6,35 mag Zoom, einer hohen Gravitationsverzerrungskorrektur und einem großen Sichtfeld ausgestattet. Es verwendet fortschrittliche Lasertechnologie, um kleine Funktionen auf der Oberfläche des Wafers zu schaffen - wie Vias und Kontakte -, die den genauen Spezifikationen des gewünschten Mikrochips entsprechen. Der Stepper ist für den Betrieb unter den intensivsten Bedingungen, gut geeignet für die langen Stunden und hohe Präzision in der Halbleiterindustrie erforderlich. Das Gerät ist mit ultragenauen Ausrichtstufen für präzise x-, y- und z-Position und -Orientierung ausgestattet. Die Laufzeitfunktionen auf Systemebene umfassen Autofokus, Belichtungssteuerung, Dosissteuerung und Ausrichtungssteuerung. Das Gerät umfasst eine Hochgeschwindigkeitsstrecke zur Bearbeitung von Mehrfachwafern gleichzeitig sowie eine fortschrittliche Bildgebungstechnologie, um die höchste Präzision für kleinere Funktionen zu gewährleisten. ULTRATECH 1500 MVS eignet sich für Ein- und Mehrfachbelichtungsanwendungen in Small-Die-Anwendungen. Mit seiner hohen Verfügbarkeit, der schnellen Submikron-Verarbeitung und der verbesserten Genauigkeit ist es ideal für optische lithographische Prozesse bei der Herstellung von Mikrochips. Um die Qualität seiner Wafer zu gewährleisten, ist eine 1500-MVS-Maschine mit Kantenerkennung und OCR-Fähigkeit konzipiert, was die Ergebnisse außerhalb der Spezifikation reduziert. Insgesamt bietet ULTRATECH 1500 MVS Wafer Stepper eine zuverlässige Plattform für effiziente, genaue und wiederholbare lithografische Prozesse. Seine hohe Geschwindigkeit, Genauigkeit und Wiederholbarkeit machen es perfekt für die Arbeit auf Industrie- und Forschungsebene, was bei jedem Projekt hervorragende Ergebnisse liefert.
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