Gebraucht ULTRATECH 1500 MVS #9293528 zu verkaufen

Hersteller
ULTRATECH
Modell
1500 MVS
ID: 9293528
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2000
Stepper, 6" Stage type: SERVO Driven X and Y Stepper motor driven in theta Multi-axis air bearings Laser metered Laser resolution: 40 nm Vibration control: Isolated granite table Computer: HP 362 Controller Graphics monitor Enclosed impact printer Wafer handling: Cassette to cassette autoloader Manual loader / Robotic loader Imaging and lens (1.0 µm): Resolution: 1.0 µm CD Control: 0.9 ≤ CD ≤ 1.1 µm DOF: > 3.0 µm Lens distortion: ≤ 160 nm, 100% Lens matching (A-B): ≤ 180 nm, 100% Maximum image area: 34.2 x 13.6 mm Longest rectangle: 39.0 x 11.4 mm Largest square: 18.0 x 18.0 mm Exposure spectrum: 390-450 nm Imaging and lens (0.8 µm): Resolution: 0.8 µm CD Control: 0.72 ≤ CD ≤ 0.88 µm DOF: > 2.0 µm Lens distortion: ≤ 110 nm, 100% Lens matching (A-B): ≤ 130 nm, 100% Maximum image area: 31.80 x 11.5 mm Longest rectangle: 34.0 x 10.0 mm Largest square: 15.5 x 15.5 mm Exposure spectrum: 390-450 nm Exposure (1.0 µm and 0.8 µm): Uniformity: 3.0%, 2.5% Wafer plan irradience: ≥1000 wM/cm² 2000 vintage.
ULTRATECH 1500 MVS (Micro-Atmosphere Vacuum Stepper) ist ein leistungsstarker Wafer-Stepper für Photoresist-Anwendungen. Diese fortschrittliche Ausrüstung wurde entwickelt, um eine präzise Ausrichtung und Platzierung von hochauflösenden Fotoresists zu ermöglichen und bietet erweiterte Bildgebungs- und Ausrichtungsfunktionen. Es eignet sich für fortschrittliche Lithographieanwendungen, einschließlich Deep-UV- und EUV-Resists. 1500 MVS Betriebsumgebung wird durch eine Reihe von abgedichteten Kammern von der Außenatmosphäre isoliert. Seine Temperatur, Druck und Feuchtigkeit innerhalb der Kammern sind auf die optimalen Lithographiebedingungen voreingestellt. Diese Vakuumumgebung sorgt für höchste Belichtungspräzision bei gleichzeitiger Reduzierung unerwünschter Defekte wie Scorch-Marken und Streifen. ULTRATECH 1500 MVS verfügt über ein Advancers Guide System (AGS), das eine automatische Fokussierung, Registrierung und Ausrichtungssteuerung bietet. Dieses Gerät unterstützt Waferausrichtungsfehler bis zu 0,7 Mikrometer und eine präzise Tiefenschärfenregelung. Es enthält auch eine eingebaute Licht-Kurven-Erkennung Gauß Messmaschine, um die beste Bildqualität und Lithographie Ergebnisse zu gewährleisten. 1500 MVS verfügt über ein Prodigy Controller Tool und TrueMVS Advanced Acquisition Software. Diese Software ist für die schnelle und flexible Integration von Bild- und optischen Daten in das Asset konzipiert. Es unterstützt bis zu vier Schichten, eine Vielzahl von Bildgebungsverfahren und fast jeden Schritt und Wiederholungsprozess. Es unterstützt auch die Möglichkeit, Ergebnisse verschiedener Scans und Belichtungsprozesse zu überprüfen und zu vergleichen und bietet einen schnellen Überblick über Belichtungseffekte. ULTRATECH 1500 MVS ist für Wafergrößen bis 8 Zoll ausgelegt. Dieser Stepper hat eine maximale Scangeschwindigkeit von 40 mm/s und gewährleistet eine hohe Produktivität sowohl in der Produktion als auch in der Forschung. Zur automatischen Einstellung der Belichtungsparameter für eine optimale Bildgebung ist auch eine automatische Strahlgrößenerkennung vorgesehen. 1500 MVS ist eine Spitze der Linie, erweiterte Wafer Stepper entwickelt, um die höchste Auflösung Bilder für Lithographie-Prozesse zur Verfügung zu stellen. Es ist mit fortschrittlichen Stepper-Funktionen, anspruchsvollen Steuerungs- und Bildverarbeitungsfunktionen sowie einer extrem präzisen Ausrichtung und Stabilität ausgestattet. Es ist die perfekte Wahl für Produktions- und Forschungseinrichtungen, die präzise, konsistente Belichtungsergebnisse benötigen.
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