Gebraucht ULTRATECH 1500 #9098755 zu verkaufen

ULTRATECH 1500 ist ein Top-Wafer-Stepper, der von ULTRATECH, einem Branchenführer für Halbleiteranlagen und Prozesskontrolllösungen, entwickelt wurde. Mit einem proprietären zweistufigen Verfahren ermöglicht der Stepper eine schnelle, präzise lithographische Strukturierung fortschrittlicher Halbleiterbauelementstrukturen. 1500 enthält auch eine Reihe von erweiterten Funktionen, um die Geräteherstellung einfacher und effizienter zu machen. Der zweistufige Prozess von ULTRATECH 1500 beginnt mit dem Aufbringen eines Quarzretikels auf den Wafer. Das Retikel enthält ein Master-Muster, das durch Belichten des Wafers mit ultraviolettem Licht in ein Array von Teilmustern umgewandelt wird. Das UV-Licht durchläuft eine Quarzmaske, die den Bereich der Mustergrößen erweitert. Der zweite Verfahrensschritt beinhaltet entweder die Übertragung der Muster auf den Wafer durch Trocken- oder Nassätzen oder den direkten Schreibvorgang der Vorrichtung, was eine hochauflösende Strukturierung mit Hilfe eines Arrays mehrerer fokussierter Ionenstrahlen ermöglicht. 1500 verfügt auch über eine Vielzahl weiterer erweiterter Funktionen, wie z. B. einen Vakuum-Kinetic-Indexer (VKI) mit vollem Bereich, der eine verbesserte Bewegungsvielfalt und bessere Genauigkeit ermöglicht. Darüber hinaus weist der Stepper ein integriertes Kalibriermodul auf, das zur Messung des optischen Weges (Fokus, Aberrationen) und zur Bereitstellung hochauflösender Echtzeit-Rückkopplungen zur Optimierung der Lithographie ausgelegt ist. Zu den Sicherheitsmerkmalen von ULTRATECH 1500 gehören eine ultraviolette Sicherheitsverriegelung, ein Auto-Release-Feature und Sicherheitsmodule für Evakuierung/Luft. Darüber hinaus ermöglicht sein ergonomisches Design ein verbessertes Bedienerlebnis mit einer integrierten Touchscreen-Schnittstelle, die die Produkteinrichtung und -bedienung vereinfacht. Insgesamt ist 1500 ein fortschrittlicher, hochpräziser Wafer-Stepper für die Herstellung anspruchsvoller Halbleiterbauelemente. Der proprietäre zweistufige Prozess minimiert die Belichtungszeit und ermöglicht eine präzise lithographische Strukturierung < em >, </em >, während seine Reihe fortschrittlicher Funktionen Anwendern ein verbessertes Benutzererlebnis sowie eine erhöhte Effizienz und Sicherheit bieten.