Gebraucht ULTRATECH AP 300 #293595884 zu verkaufen
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ID: 293595884
Weinlese: 2006
Stepper, 12"
Standard features target: 2 µm
Standard field: 44 mm x 26.7 mm
Test reticle: 6 x 6
Wafer thickness handling: 0.4 mm - 2 mm
Universal size / Wafer kit: 8" and 12"
FOSB Cassette to cassette wafer handling
PATMAX MVS Alignment system
MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm
Dual lamp illuminator, 1200 W
GHI-Line broadband lens
GHI-Line auto filter changer
FOUP Wafer handler
Extended field
6-Slots reticle stack
manual front loading
GEM HSMS Communications
Environmental chamber
Enhanced bottom pellicle protection
Closed loop cooling
Prism purge kit
Dual flip aperture size: 44 mm (Largest)
Power source: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wires
2006 vintage.
ULTRATECH AP 300 ist ein vollautomatischer Wafer-Stepper, der speziell für fortschrittliche Lithographieanwendungen entwickelt wurde. Es ist ein 3-Achsen-Wafer-Stepper, der eine Substratgröße von bis zu 300mm mit einer Miniierungsrate von 5:1 unterstützen kann. Seine maximale Abtastgeschwindigkeit kann bis zu 10000mm/s erreichen, und es bietet auch eine Beschleunigung von bis zu 80000mm/s ². ULTRATECH AP300 unterstützt zwei Bildprojektionsmodi: Knoll-Hart und Galvo. Der Knoll Hart-Modus projiziert mehrere Laserstrahlpunkte gleichzeitig, was eine kürzere Belichtungszeit ermöglicht; die maximale Auflösung kann bis zu 0,3 µm erreichen. Andererseits hat der Galvo-Modus den Vorteil, ein gleichmäßiges Intensitätsprofil mit einer maximalen Auflösung von 0,7 µm vorzusehen. Zusätzlich kann das Gerät Hochgeschwindigkeits-Scans von 2D-Mustern durchführen. AP 300 ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen zum Schutz vor Beschädigungen während des Betriebs ausgelegt. Das erste Sicherheitsmerkmal ist der Umkalibriermechanismus, der das System nach jeder Belichtung automatisch neu kalibrieren kann. Dadurch wird die ursprüngliche Auflösung wiederhergestellt und die Genauigkeit jederzeit gewährleistet. Das zweite Merkmal ist der verbesserte Selbstschutzmechanismus; dies ist in der Lage, Fehler, die während der Lithographie auftreten, zu erkennen und den Prozess sofort zu stoppen. AP300 verfügt zudem über einen industrietauglichen Touchscreen, um einen reibungslosen Betrieb zu ermöglichen. Es bietet eine vollständige grafische Benutzeroberfläche, mit der Benutzer das System einfach anzeigen und steuern können. Darüber hinaus ist das Gerät mit der ausgeklügelten OMR-Schnittstelle ausgestattet, mit der Anwender den gesamten Prozess von Anfang bis Ende überwachen können. Darüber hinaus bietet ULTRATECH AP 300 eine anpassbare Umgebung, um eine optimale Leistung bei verschiedenen Lichtverhältnissen zu gewährleisten. Dies kann von Standardbeleuchtung bis hin zu Dunkelraumbedingungen reichen, sodass Benutzer die Umgebung für jede Anwendung anpassen können. ULTRATECH AP300 wurde entwickelt, um höchste Genauigkeit und Zuverlässigkeit für fortschrittliche Lithographieanwendungen zu bieten. Seine Hochgeschwindigkeitsabtastung und Präzisions-Laserprojektion machen es zu einer idealen Option für Forschung und Industrieanwendungen. Die fortschrittliche Sicherheit und die intuitive Benutzeroberfläche des Geräts sorgen für eine einfache und genaue Bedienung für jeden Benutzer.
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