Gebraucht ULTRATECH AP 300 #293631544 zu verkaufen
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ID: 293631544
Stepper
Environmental chamber
Extended field target: 2 µm
GHI-Line auto filter changer
Broadband lens
Dual lamp illuminator, 1200 W
FOSB Cassette to cassette handler
FOUP Wafer handler
Test reticle: 6x6
Wafer thickness: 0.4 mm to 2 mm
PatMax MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm
6-Slots reticle stack
Front loading: Manual
Enhanced bottom pellicle protection
Edge exclusion with exclusion ring size, 15 mm
Closed loop cooling
Prism purge kit
Power supply: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wire.
ULTRATECH AP 300 ist ein Schritt-und-Wiederholungs-Wafer-Stepper für hochvolumige Photolithographie-Anwendungen. Dieses Gerät wurde entwickelt, um eine zuverlässige und genaue Produktion von FOV-Waferstufen zu ermöglichen, indem Muster aus der Fotomaske exakt projektiv ausgerichtet und auf den Wafer übertragen werden. Es bietet eine Auflösung von 0,25 μ m, eine Mindestfunktionsgröße von 0,17 μ m und eine Fokusvariante von 0,008 μ m. Das hochmoderne Engineering von ULTRATECH AP300 gewährt ihm eine branchenführende Geschwindigkeit mit Rundfahrzeiten von bis zu 0,35 Sekunden für Feinausrichtungswafer und 0,9 Sekunden für nicht so fein ausgerichtete Wafer. Darüber hinaus ist die Fähigkeit, bis zu 10.000 Wafer pro Stunde herzustellen, eine zeit- und kostengünstige Maschine. Der Wafer-Stepper wird durch eine hochentwickelte und präzise motorisierte X-Y-Stufe angetrieben. Die motorisierte Stufe weist eine Auflösung von Sub-Nanometern und eine Positioniergenauigkeit von 0,2 μ m auf. Dieser leistungsstarke Motor trägt dazu bei, dass die Hochgeschwindigkeitsbewegungen des Geräts innerhalb der definierten Genauigkeit bleiben. Dies wird dazu beitragen, den Durchsatz für Wafer-Stepper-Anwendungen zu erhöhen. AP 300 umfasst ein robustes und kompaktes Gehäusedesign mit einem hochauflösenden 12,7 "700 TVLine Farbmonitor und einem 3D-Betrachtungssystem. Das Betrachtungssystem ist perfekt für die Überwachung und Inspektion des Prozesses der Lithographie ohne Unterbrechung. Darüber hinaus ist das Betrachtungssystem mit einer ausgeklügelten Optik integriert, die es ermöglicht, Wafer mit einer Genauigkeit von 2 μ m und einem Sichtfeld von 860-1200 μ m zu inspizieren. Um den Einsatz des Wafer-Steppers zu optimieren, ist AP300 mit einer benutzerfreundlichen Software ausgestattet, die es Anwendern ermöglicht, eine Vielzahl von Operationen zu programmieren. Die Software ist auch kompatibel mit Manufacturing Engineering Language (MEL), so dass Benutzer den Betrieb effizient steuern können. Für seine Steifigkeit, Genauigkeit und Betriebsgeschwindigkeit ist ULTRATECH AP 300 ein effizienter und zuverlässiger Wafer-Stepper. Es hat Anwendung in der Halbleiter, Flachbildschirm und anderen verwandten Industrien Photomasken-Transfers mit verbesserter Konsistenz und Produktivität zu produzieren.
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