Gebraucht ULTRATECH AP 300 #9236556 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9236556
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Stepper, 12"
Operating system: Windows
Intensity: 2500 (mw/cm²)
Wave length: D, H, I Line
DOF: 5 um
Resolution: 200 nm
Field size: 44 x 26 mm
Lamp uniformity: 3.07%
Type: SMIF
Automation line component: GEM
Reticle size, 6"
Wafer of type
Illumination: Standard
Main shutter: Standard
Booth unit
Reticle changer
Reticle cassette
No reticle cassette bar-code
Reticle bar-code reader
TAG Reader
No pellice particle check
Intensity meter holder / Display
High precision N rotation PA parts
CDA Filter: Organ In-organ
Signal tower
No double cassette elevator
No HeNe unit modification unit
Remote E-console: Single
Recipe server
Stage:
Scan speed: 250 mm/sec
Chuck: Ring chuck
Electric power: 208 V / 60 Hz
2008 vintage.
ULTRATECH AP 300 ist ein Wafer-Stepper, der höchste Leistungsfähigkeit und Genauigkeit zur Automatisierung von Prozessen in der Halbleiterherstellung bietet. Es ist eine mehrachsige Automatisierungsausrüstung mit ausgeklügelter Wafer-Handhabung, hochgenauer Messtechnik und fortschrittlicher Optik. ULTRATECH AP300 hat seinen Namen von seiner fortschrittlichen Präzisionstechnologie - „Advanced Precision“ oder „AP“. AP 300 nutzt ein ausgeklügeltes, mehrachsiges Positioniersystem mit < 1000 Nanometern Genauigkeit und stellt sicher, dass Geräte bei Bedarf genau anders verarbeitet werden können. Mit seiner beeindruckenden Genauigkeit kann es effektiv Kantenstrukturen über ein bestimmtes Gerät profilieren, um das gewünschte Endprodukt zu erreichen. AP300 verfügt auch über fortschrittliche Optik, die Auflösungen bis zu 10 Mikrometer und Spitzenwellenlängen so kurz wie das sichtbare Spektrum erreichen kann. Mit seiner fortschrittlichen Optik kann ULTRATECH AP 300 Fehler mit beispielloser Genauigkeit messen. Von der kritischen Durchmesser- und Tiefenmessung von Beugungsgittern bis zur hohen Genauigkeit geneigter Targets ermöglicht ULTRATECH AP300 eine überlegene Inspektion von Geräteoberflächen. Darüber hinaus verfügt AP 300 über eine ausgeklügelte Wafer-Handhabungseinheit, die eine schnelle Verarbeitung ermöglicht. Mit dem Fokus auf Gerätekomplexität und Ein-/Ausgangsbedingungen optimiert die Wafer-Handhabungsmaschine von AP300 den Durchsatz für Wafer aller Größen. Insgesamt ist ULTRATECH AP 300 ein anspruchsvoller, mehrachsiger Wafer-Stepper, der das höchste Maß an Leistung und Genauigkeit bietet, das für die Automatisierung von Prozessen in der Halbleiterherstellung zur Verfügung steht. Es verfügt über eine fortschrittliche Optik mit Auflösungen bis zu 10 Mikrometer und ein hochgenaues mehrachsiges Positionierwerkzeug mit < 1000 Nanometer Genauigkeit. ULTRATECH AP300 bietet zudem ein ausgeklügeltes Wafer Handling-Asset, das einen effizienten Durchsatz ermöglicht. AP 300 bietet eine leistungsstarke Automatisierungslösung für Qualitätsverbesserung, Durchsatzoptimierung und Halbleiterbauelementfertigung.
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