Gebraucht ULTRATECH Mercury XLS 200 #9228468 zu verkaufen

ULTRATECH Mercury XLS 200 Wafer Stepper ist ein Hochleistungs-Lithographie-Tool, mit dem Hersteller hochpräzise Chip-Muster für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse erstellen können. Die XLS 200 verfügt über fortschrittliche Funktionen, die es ermöglichen, überlegene Musterdruckgenauigkeit und hohen Durchsatz zu liefern. Das Gerät basiert auf ULTRATECH fortschrittlicher Bildgebungstechnologie, einschließlich seiner Multilevel-Bildgebungsplattform FiestoLVDS und Beamblanker Electronic Shutter. Diese Technologien führen zu einer präzisen Bildgebung und einer verbesserten Strahlbelichtungsstabilität. Das System verfügt zudem über thermisch stabile Abbildungsoptiken für optimale Leistung und Platzierungsgenauigkeit. Diese fortschrittliche Technologie ermöglicht es dem XLS 200, Bilder mit hoher Auflösung, niedrigen Linienbreiten und hoher Overlay-Genauigkeit zu erzeugen. Die XLS 200 verwendet eine Dual-Beam-Architektur mit separaten, unabhängig gesteuerten Spalten zur Belichtung. Dieser modulare Aufbau ermöglicht einen höheren Durchsatz und verbesserte Leistung. Darüber hinaus umfasst die Plattform eine 5-Achsen-Stufe zur genauen Ausrichtung von Masken und Wafern während des Belichtungsprozesses. Die XLS 200 verfügt zudem über eine flexible und erweiterbare Architektur, mit der Sie erweiterte Prozesse und Optionen integrieren können. Dazu gehören optionale Lithographiefunktionen wie SmartSource, Focal-Depth, Multi-Level, Multi-Patterning, Polarität und Low Dynamics. Dadurch kann der Anwender seine Prozesse anpassen und mit weniger Iterationen höhere Erträge erzielen. Die XLS 200 wurde entwickelt, um die Entwicklungskosten durch die Optimierung des Kalibrierungsprozesses zu senken. Es umfasst schnell zu messende Laserhöhen- und Fokussysteme, die Zeit sparen und den Eingriff des Bedieners reduzieren. Zusätzlich enthält die Maschine eine abnehmbare Kalibratorplatte zur automatisierten Kalibrierung. Mit Spitzentechnologien ist Mercury XLS 200 Wafer Stepper eine ideale Lösung für fortschrittliche Halbleiterherstellungsanwendungen. Es bietet überlegene Leistung, verbesserte Ertragsproduktion und Kosteneinsparungen durch optimierte Kalibrierung und verbesserten Durchsatz.