Gebraucht ULTRATECH Sapphire 100 #293645247 zu verkaufen
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ID: 293645247
Wafergröße: 4"
Weinlese: 2011
Stepper, 4"
Reticle size: 3 x 5
Lens resolution: 2 µm
I-Line illuminator wavelength
TAZMO Loader
PC
2011 vintage.
ULTRATECH Sapphire 100 ist ein Multifeld-hierarchischer Wafer-Stepper, der speziell für MEMS, Optoelektronik und andere Halbleiteranwendungen entwickelt wurde. Es ist ein fortschrittliches Werkzeug mit den neuesten Lithographie, Messtechnik und Automatisierungstechnologien ausgestattet. Dieses Werkzeug hat eine ultraschnelle, subhalbe Mikrometer Schrittweite, sowie eine maximale wiederholbare Genauigkeit von ± 1 Mikrometer. Darüber hinaus bietet es eine sehr flexible Palette an Antriebsimpulsen, Prozessparametern und Anpassungen, um die Produktion auf Unternehmensebene sicherzustellen. Saphir 100 ist ein wirtschaftlicher, leistungsstarker Stepper, ideal für Anwendungen, die eine extrem hohe Präzision erfordern. Es verfügt über die Fähigkeit, präzise und nahtlos exakte Musterformen, Funktionsgrößen und Positionsgenauigkeit zu liefern. Dies macht es eine gute Wahl für die Herstellung von wesentlichen Geräten wie Mikropakete, MEMS, SOI, erweiterte Schalter und Multi-Aperture-Objektive. Der Stepper ist mit einem leistungsstarken Hochgeschwindigkeits-Controller und einer optimierten Optik ausgestattet, bestehend aus mehreren Linsen und mehrfarbigen und leistungsstarken LED-Beleuchtungsquellen. Dieses System ermöglicht das Scannen von Substraten mit bis zu 5x Schrittgrößen von 1 μ m und darüber hinaus bei maximaler Prozessgenauigkeit von ± 0,5 μ m. Die hierarchische Mehrfeldscan-Technologie reduziert die Markteinführungszeit und verbessert den Durchsatz mit über 600 Teilen pro Stunde. ULTRATECH Sapphire 100 wurde fein abgestimmt, um überlegene Bildqualität, größeren Durchsatz und harmonische Beleuchtungsoptimierung zu liefern. Es verfügt auch über ein In-situ-Reinigungssystem, um strenge Verschmutzungskontrollstandards sowie Diagnose- und automatisierte Prozessdatenanalysen zu gewährleisten, um Schrott zu minimieren und den Ertrag zu steigern. Darüber hinaus verfügt Sapphire 100 über eine benutzerfreundliche Schnittstelle zur Programmierung komplexer geometrischer Formen mit der Option für mehrere Benutzerkonten für verbesserte Workflows. Insgesamt ist ULTRATECH Sapphire 100 ein wesentliches Werkzeug für MEMS, Optoelektronik und andere Halbleiteranwendungen. Die Kombination aus Präzision und Flexibilität, überlegener Bildqualität, hierarchischem Mehrfeldscannen, fortschrittlichem Steuersystem und In-situ-Reinigung machen es ideal für eine leistungsstarke und kostengünstige Produktion.
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