Gebraucht ULTRATECH Sapphire 100 #293645287 zu verkaufen

ULTRATECH Sapphire 100 ist eine hochpräzise Lithographieanlage mit hohem Durchsatz, die präzise Muster auf verschiedenen Substraten herstellen kann. Dieser Stepper wurde für fortschrittliche Forschungs- und Entwicklungsanwendungen entwickelt und ermöglicht es Herstellern, Dünnschicht- und Photonenstrukturen präzise und effizient auf Substrate zu übertragen. Sapphire 100 verfügt über eine Reihe von technologischen Vorteilen, die es Anwendern ermöglichen, Muster und Strukturen mit hoher Treue und Zuverlässigkeit genau zu reproduzieren. Der integrierte Mustergenerator des Systems erzeugt automatisch und komfortabel die präzisesten Strukturen, ohne dass während des gesamten Prozesses ein Benutzereingriff erforderlich ist. Darüber hinaus erzeugt das Gerät eine Hochgenauigkeitsauflösung von bis zu 1,5 μ m. ULTRATECH Sapphire 100 verfügt auch über eine verbesserte Scan-Day-Feldgröße, die Linienbreiten unter 0,25 μ m erzeugen kann, und es ist in der Lage, mit Wafern zu arbeiten, die bis zu 5 Zoll über messen. Dieser Stepper verfügt auch über eine integrierte Schnittstelle mit einer Vielzahl von Software und Systemen von Drittanbietern, die eine einfache Integration von Datensätzen ermöglicht, damit Benutzer schnell genaue Muster und Designs erstellen können. Sapphire 100 verfügt über eine automatische Scan-Day-Effizienz und automatisierte Fokusüberwachung, die zusammenarbeiten, um eine optimale Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Diese Maschine verfügt auch über eine Vielzahl von Belichtungsmöglichkeiten für die Herstellung der höchsten Treue von Mikrostrukturen, wie mittlere Auflösung Masken und feine Linien Designs. Das Tool ist auch mit fortschrittlicher Temperaturregelung, Staubreduzierungsfunktionen und niedrigen Vibrationsstufen ausgestattet, die zur Gesamtgenauigkeit und -leistung des Asset beitragen. ULTRATECH Sapphire 100 kommt mit einer Vielzahl von Hardware- und Software-Zubehör, einschließlich einer Auto-Load/Eject-Funktion, einer Laserlichtquelle, einem Alarmmodell und einer Vielzahl von Netzwerk- und Datenverwaltungsoptionen. Mit einem kompakten und ergonomischen Design ist diese Ausrüstung benutzerfreundlich und einfach zu installieren und zu warten. Das System ist auch in der Lage, sich in eine breite Palette von Fertigungsvorgängen zu integrieren. Abschließend ist Sapphire 100 eine hochpräzise Lithographieeinheit mit hohem Durchsatz, die für fortgeschrittene Forschungs- und Entwicklungsanwendungen entwickelt wurde. Diese Maschine verfügt über eine Reihe von technologischen Vorteilen, einschließlich eines Mustergenerators, einer Hochtreue-Auflösung, einer verbesserten Scan-Day-Feldgröße, Belichtungsoptionen, Temperaturkontrolle, Staubreduzierungsfunktionen und niedrigen Vibrationsstufen. Es ist benutzerfreundlich und kann einfach in eine Vielzahl von Fertigungsvorgängen integriert werden.