Gebraucht ULTRATECH Sapphire 100 #293649647 zu verkaufen

ULTRATECH Sapphire 100 Wafer Stepper ist eine fortschrittliche Lithographie-Ausrüstung für die Photomaskierung in Halbleiteranwendungen. Saphir 100 ist in der Lage, bis zu 6-Zoll-Durchmesser-Wafer mit einer Präzision von 2 Mikron zu verarbeiten. Es bietet auch verschiedene Overlay-Ausrichtungs- und Durchsatzoptionen, um eine genaue Strukturierung von Arrays hoher Dichte oder komplexen Strukturen zu gewährleisten. ULTRATECH Sapphire 100 ist mit einem dynamischen Fokussystem, einem 6-Zoll-Standardobjektiv und erweiterten Bildgebungsfunktionen ausgestattet, einschließlich eines adaptiven Beobachters, der die dynamische Einstellung von Belichtungsparametern für maximale Mustergenauigkeit ermöglicht. Saphir 100 ermöglicht auch die Auswahl verschiedener Belichtungsparameter, einschließlich Belichtungszeit, Dosis und Anzahl der Impulse. Das Gerät verfügt über ein proprietäres NEGA π Photomasken-Programm, mit dem Strukturen mit einer Mikrogenauigkeit von bis zu 6 Mikrometern exakt ausgerichtet werden können. ULTRATECH Sapphire 100 hat die Fähigkeit, eine Vielzahl von Materialtypen zu verarbeiten, darunter Silizium, Galliumarsenid und Silizium Germanium, sowie dünne Filme mit einer Dicke von bis zu 1000 Angström. Die Maschine ist bidirektional, d.h. sie kann zur Belichtung von im Kontaktmodus oder im Näherungskontaktdruck hergestellten Gittern verwendet werden. Sapphire 100 verfügt über einen Bordrobotik-Handler zum automatischen Be- und Entladen von Wafern sowie einen digitalen Energiezähler für genaue Energielesungen. Darüber hinaus nutzt das Werkzeug fortschrittliche Optik, einschließlich drehbarer Beleuchtung, um eine optimale Lichtdurchlässigkeit zu gewährleisten. ULTRATECH Sapphire 100 beinhaltet zwei verschiedene Steuerungsmöglichkeiten - eine kundenspezifische Steuerung und ein Auto-Exposure/Intelligent Lighting-Modell, mit dem der Anwender Belichtungs- und Fokusparameter ohne externe Eingriffe einstellen und steuern kann. Das Gerät ist auch in der Lage, Echtzeit-Überwachung, die schnelle Rückmeldung auf die Ergebnisse des Lithographie-Prozesses. Saphir 100 ist für eine schnelle und genaue Photomaskierung für eine Vielzahl von Anwendungen konzipiert. Die Kombination aus einstellbaren Belichtungsparametern und präzisen Lithographiefähigkeiten ermöglicht die genaue Strukturierung komplexer Dichtestrukturen oder sehr kleiner Strukturen. Die Kombination aus fortschrittlicher Optik, automatisiertem Wafer-Handling und intelligenter Beleuchtung sorgt zudem für optimale Lithographieergebnisse, um höchsten Leistungsstandards gerecht zu werden.