Gebraucht ULTRATECH Sapphire 100E #293664300 zu verkaufen

ULTRATECH Sapphire 100E Wafer Stepper wurde entwickelt, um eine einzelne Waferbearbeitung von den frühesten Stufen der Halbleiterherstellung zu ermöglichen. Dieses Stufen- und Wiederholgerät verfügt über ein hochmodernes Kamerasystem in Kombination mit einem säulengesteuerten Design für eine reibungslose und erfolgreiche Ausrichtung von Wafern. Saphir 100E umfasst auch eine Reihe von Präzisionskomponenten mit einer Messgenauigkeit von +/−2mm und einer maximalen Waferabmessung von 25mm × 300mm. Die fortschrittliche interferometrische optische Einheit in ULTRATECH Sapphire 100E bietet eine schnelle Ausrichtung mit Nanometer-Positioniergenauigkeit sowie eine fortschrittliche Betriebsumgebung für optische Spezialaufgaben mit hoher Wiederholbarkeit. Die Verwendung von 6-Achsen-Korrektur in Verbindung mit einer innovativen optischen Maschine sorgt jedes Mal für eine genaue Ausrichtung, was die Gemeinkosten und Produktionszeiten erheblich reduziert. Sapphire 100E bietet auch hochgenaue Messfunktionen, einschließlich Auflösung bis zum Nanometer-Niveau. ULTRATECH Sapphire 100E Wafer Stepper verfügt über ein robustes und leistungsstarkes Laser-Autofokus-Tool, das die einfache Nutzung jedes Merkmals des Steppers während jedes Schritts der Waferbearbeitung ermöglicht. Der Fokusbereich des Laser Autofokus Asset ist je nach individueller Anwendung einstellbar - von einem vollen Sichtfeld von 500mm bis zu einem Referenzfeld von 2mm. Diese Flexibilität verleiht dem Stepper eine enorme Vielfalt an Einsatzmöglichkeiten und ist damit ein äußerst vielseitiges Modell für vielfältige Aufgaben. Die optische Ausrüstung von Sapphire 100E Wafer Stepper besteht aus einer Kombination aus fortschrittlichen bildgebenden Sensoren und Glasfasern führender Hersteller, die eine präzise Steuerung für jede Komponente der Belichtungs- und Bildgebungssequenz bieten. Ein umfangreiches Sortiment an Wechselfiltern sorgt für Anpassungsfähigkeit und erweitert die Möglichkeiten des Steppers über jede Stufe des Waferproduktionsprozesses. Darüber hinaus ermöglicht das automatisierte Belichtungssteuerungssystem ULTRATECH Sapphire 100E Benutzern die Definition von Variablen wie Energieniveaus und Belichtungszeiten, wodurch Genauigkeit und gleichbleibende qualitativ hochwertige Ergebnisse gewährleistet werden. Sapphire 100E verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche mit einer einfach zu bedienenden grafikbasierten Steuereinheit, die eine einfache Belastung und Bedienung ohne Lernkurve ermöglicht. Darüber hinaus bietet die ASIC-basierte Mustererkennungsmaschine im Stepper Digitalisierungs- und Programmiermöglichkeiten, die eine komplexe Musterbelichtung mit automatisierter Optimierung ermöglichen. ULTRATECH Sapphire 100E Wafer Stepper ist ein wesentliches Werkzeug im modernen Halbleiterherstellungsprozess und bietet wiederholbare Genauigkeit und Flexibilität. Mit seinem fortschrittlichen optischen Design, dem präzisen Laser-Autofokus-Tool, den überlegenen Bildgebungsfunktionen und der intuitiven Steuerung ist Sapphire 100E ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug für die Waferbearbeitung.