Gebraucht ULTRATECH Saturn Spectrum 300 #9198660 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9198660
Weinlese: 2005
Stepper
Mainframe configurations:
Controller unit:
Centralized control and distributed control
SECS Compatibility
Exposure unit:
Hg Lamp
GHI-Line light source
Indexer unit:
Two cassette loader / Unloader
Universal wafer size
Transfer unit:
Robot
Can handle 6", 8" and 12" wafers, both notch and flat type
Wafer stage unit:
Linear motor XY stage
Reticle stage
Automated wafer thickness compensator
Alignment unit:
Pre-alignment: Automatic enhanced global alignment
Through the lens alignment
MVS (Machine vision system) pattern recognition system
Closed loop dose control system
Focus detector and focus leveling system
Operation unit:
Alignment monitor
Program execution monitor
Keyboard or joy-stick
Printer
Safety unit:
Vibration isolation system
Auto alarm system
Interlock protection system
Hardware specification:
Notch and flat wafer
SEMI and JEIDA standard
Wafer thickness: 11-30 mil
Stage type:
Linear motor drive
3-Axes of freedom
Wafer handling:
Cassette to cassette
Conform to SEMI and JEDIA standard
Hg Lamp type: 1000 Watt
Reticle size: 6 x 6 x 0.25 inch
Reticle library: (12) Slots library with barcode reader
Fields per reticle:
1-4
6 x 6" -2- field, max field size: 44.0 x 26 mm
6 x 6" -3- field, max field size: 37.6 x 26 mm
6 x 6" -4- field, max field size: 27.6 x 26 mm
Maximum field size: 44 x 22 mm
Global alignment: Within ± 40 µm placement accuracy
Enhanced global alignment: 500 nm, 3δ (Reticle image recognition alignment system)
Alignment optical system: Bright field alignment
Up-time: ≥90%
MTTR: <4 Hours
Reliability test: Cycling test: > 500 wafers (with alignment) processed without reject and fail
Wafer breakage: ≤ 1/ 10000
Vibration control: Active air isolation
Computer / Printer type:
VME Bus controller
CPU: ≥35 MHz
Color graphic monitor
Enclosed impact printer
Process specification:
Minimum feature size: ≤1.40µm
DOF (Depth of focus):
≥ 4 µm (at 2 µm L/S with 2 µm thickness of resist)
≥ 8 µm (at 30/10 µm L/S with 23 µm thickness of resist)
≥10 µm (at 50 µm L/S with 120 µm thickness of drvr film)
Dynamic focus: Provides capability of exposing photosensitive films from 1- 125µm
CD Uniformity: ≤±10%
Irradiance at wafer plane: ≥1200mW/Cm²
Maximum image area: 44 X 26 mm²
Exposure spectrum: 350 - 450nm (GHI-line/ Full spectrum)
Exposure uniformity: ≤ ±4%
Alignment accuracy: ≤ 0.5 µm (3δ)
Throughput: 8-inch wafer, 400mj/ Cm², 44 x 22 mm field size, wafer layout 26 steps: >60 wph
Exposure linearity:≤ ±1%
2005 vintage.
ULTRATECH Saturn Spectrum 300 ist ein Hochleistungs-Wafer-Stepper, der alle bildgebenden Anforderungen für Lithographieanwendungen unterstützt. Mit seinem hochmodernen Design bietet der Saturn Spectrum 300 Wafer Stepper präzise Ausrichtung, reproduzierbare Belichtung und wiederholbare Bildgebung über den gesamten Wafer. Der Stepper verfügt über eine fortschrittliche optische Ausrüstung mit einem weiten Sichtfeld (FOV), die eine maximale Auflösung über die Oberfläche des Wafers gewährleistet. Der FOV kann bis zu 300 mm erweitert werden und die erreichte Gesamtschärfentiefe (DOF) beträgt weniger als 2,5 Mikrometer. Die digitalisierte Hochgeschwindigkeits-CCD-Kamera und anspruchsvolle Mustererkennungsalgorithmen im System sorgen für eine hochpräzise Ausrichtung und präzise Belichtung. Die verstellbare Grundplatte des ULTRATECH Saturn Spectrum 300 sorgt für eine feine Bewegungsauflösung und eine präzise Ausrichtung der Wafer. Die Grundplatte kann für die Schnittregistrierung von bis zu vier Bereichen eingestellt werden, wodurch unregelmäßige Systeme belichtet werden können. Das Bewegungsprofil des Steppers kann angepasst werden, um den Durchsatz zu optimieren und die Zykluszeit zu reduzieren. Saturn Spectrum 300 verfügt über eine Reihe fortschrittlicher Bildgebungswerkzeuge, einschließlich einer komplexen Maskenmustererkennungsfunktion, einem Transformationswerkzeug für negative Bildstreifen und einer erweiterten Autofokuseinheit. Die erweiterte Maskenmustererkennungsfunktion identifiziert und lokalisiert die Objekte beim Bedrucken. Das negative Bildstreifen-Transformationswerkzeug unterstützt Änderungen in der Richtung eines Musters beim Bedrucken. Die fortschrittliche Autofokus-Maschine sorgt dafür, dass während der Bildgebung korrekte Fokusanpassungen vorgenommen werden. Darüber hinaus ist das ULTRATECH Saturn Spectrum 300 mit einer 3-Achsen-motorisierten Bühne ausgestattet, die neun Freiheitsgrade bietet, um eine überlegene Bewegungsgenauigkeit zu gewährleisten. Die 3-achsige motorisierte Stufe unterstützt die Musteranpassung innerhalb einer gegebenen Struktur mit einer Vielzahl von Schritten, während der integrierte Drehverschluss zwischen den Belichtungen ein extrem gleichmäßiges Belichtungsfeld erzeugt. Dieser Wafer-Stepper ist kompatibel mit den empfohlenen Strahlungsquellen wie dem ArF-Laser und der I-Linie zur präzisen Prägung. Saturn Spectrum 300 Wafer Stepper verfügt über integrierte Sicherheitsfunktionen für die Strahlendosismessung, um Benutzer vor Exposition zu schützen. Insgesamt ist das ULTRATECH Saturn Spectrum 300 ein vielseitiger und präziser Wafer-Stepper mit überlegener Auflösung, Wiederholbarkeit und Genauigkeit in Lithographieanwendungen.
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